سیویلیکا را در شبکه های اجتماعی دنبال نمایید.

Login
PapersConferencesJournals

Effect of Sputtering Power on Physical Properties of Cu Thin Films Deposited by Magnetron Sputtering

Publish place: 2nd National Conference on Optic and Laser Engineering
Publish Year: 1390
Type: Conference paper
Language: English
View: 1,949

متن کامل این Paper منتشر نشده است و فقط به صورت چکیده یا چکیده مبسوط در پایگاه موجود می باشد.
توضیح: معمولا کلیه مقالاتی که کمتر از ۵ صفحه باشند در پایگاه سیویلیکا اصل Paper (فول تکست) محسوب نمی شوند و فقط کاربران عضو بدون کسر اعتبار می توانند فایل آنها را دانلود نمایند.

Export:

Link to this Paper:
https://civilica.com/doc/112469

Document National Code:

NCOLE02_166

Index date: 15 March 2011

Effect of Sputtering Power on Physical Properties of Cu Thin Films Deposited by Magnetron Sputtering abstract

In this paper, we have been investigated the influence of sputtering power on physical and structural properties of copper (Cu) thin films deposited by dc magnetron sputtering. Experiments show that the deposition rate of the Cu film increases with sputtering power. Surface morphology of thin films was obtained by atomic force microscopy (AFM). The results show that high sputtering power improves the microstructure of the Cu film and the grain size become large due to surface diffusion of adatoms as power increases

Effect of Sputtering Power on Physical Properties of Cu Thin Films Deposited by Magnetron Sputtering Keywords:

Sputteing power , thin film , Copper , atomic force microscopy

Effect of Sputtering Power on Physical Properties of Cu Thin Films Deposited by Magnetron Sputtering authors

Zahra Shafieizadeh

Iranian National Center for Laser Science and Technology, PO Box ۱۴۶۶۵-۵۷۶, Tehran, Iran

Jahanbakhsh Mashaiekhy Asl
Hossein Nahidi
Jamshid Sabbaghzadeh

مراجع و منابع این Paper:

لیست زیر مراجع و منابع استفاده شده در این Paper را نمایش می دهد. این مراجع به صورت کاملا ماشینی و بر اساس هوش مصنوعی استخراج شده اند و لذا ممکن است دارای اشکالاتی باشند که به مرور زمان دقت استخراج این محتوا افزایش می یابد. مراجعی که مقالات مربوط به آنها در سیویلیکا نمایه شده و پیدا شده اند، به خود Paper لینک شده اند :
Kah-Yoong Chan and Bee-San Teo, "Atomic force microscopy ...
Jijun Yang, Youlan Huang, Kewei Xu, "Effect of substrate o ...
J.F. Pierson, D. Wiederkehr, A. Billard _ "Reactive magnetron sputtering ...
نمایش کامل مراجع