بررسی تأثیر اکسیداسیون گرمایی بر خواصنانو ساختارهای سیلیسیوم متخلخل بهمنظور استفاده در موجبر نوری
Publish place: 2nd National Conference on Optic and Laser Engineering
Publish Year: 1390
نوع سند: مقاله کنفرانسی
زبان: Persian
View: 1,079
This Paper With 6 Page And PDF Format Ready To Download
- Certificate
- من نویسنده این مقاله هستم
استخراج به نرم افزارهای پژوهشی:
شناسه ملی سند علمی:
NCOLE02_211
تاریخ نمایه سازی: 24 اسفند 1389
Abstract:
در این مقاله شرح ساخت لایههای سیلیسیوم متخلخل متشکل از نانوساختارهارا به روش الکتروشیمیایی بر روی زیرلایه سیلیسیوم نوع p+ ارائه دادیم. مشخصات فیزیکی لایههای ساخته شده را با استفاده از روشجرمسنجی و تصویربرداری AFM وFESEM و مشخصات نوری آن را با استفاده از طیف بازتاب تعیین کردیم. سپسلایه متخلخل به دست آمده را اکسید کرده و تأثیر اکسیداسیون را بر خواص فیزیکی و نوری آن بررسی کردیم. نتایج نشان میدهد که اکسیداسیون گرمایی ابعاد نانوساختارها را افزایشداده و سطح هموارتری به وجود میآورد. از طرفی ضخامت لایه PS با اکسیداسیون افزایشیافته و ضریب شکست لایه حاصل کاهشمییابد. نتیجه این آزمایشمی تواند برای ساخت موجبرهای نوری در فناوری اپتیکمجتمع مورد استفاده قرار گیرد
Keywords:
Authors
مریم زارع
خمینیشهر،باشگاه پژوهشگران جوان دانشگاه آزاد اسلامی واحد خمینیشهر
عباس شکرالهی
خمینیشهر،باشگاه پژوهشگران جوان دانشگاه آزاد اسلامی واحد خمینیشهر
فرامرز اسمعیلی سراجی
تهران، مرکز تحقیقات مخابرات ایران، گروه مخابرات نوری
محمدفاضل زارع
تهران، سازمان صنایع هوا- فضا، صنایع شهید شیرودی
مراجع و منابع این Paper:
لیست زیر مراجع و منابع استفاده شده در این Paper را نمایش می دهد. این مراجع به صورت کاملا ماشینی و بر اساس هوش مصنوعی استخراج شده اند و لذا ممکن است دارای اشکالاتی باشند که به مرور زمان دقت استخراج این محتوا افزایش می یابد. مراجعی که مقالات مربوط به آنها در سیویلیکا نمایه شده و پیدا شده اند، به خود Paper لینک شده اند :