سیویلیکا را در شبکه های اجتماعی دنبال نمایید.

بررسی تاثیر دمای بستر بر خواص ساختاری و اپتیکی لایه های نازک اکسید مس

Publish Year: 1399
Type: Conference paper
Language: Persian
View: 429

This Paper With 5 Page And PDF Format Ready To Download

Export:

Link to this Paper:

Document National Code:

MCMIM01_054

Index date: 8 April 2021

بررسی تاثیر دمای بستر بر خواص ساختاری و اپتیکی لایه های نازک اکسید مس abstract

در این پژوهش لایه های اکسید مس (CuO) به روش کندوپاش واکنشی روی زیرلایه های شیشه ای در دمای اتاق، 350˚Cلایه نشانی شده اند. فرایند لایه نشانی در فشار (2-)10×1 تور و نسبت گازهای O:Ar به ترتیب برابر 2:1انجام شد. برای مشخصه یابی و ارزیابی خواص ساختاری و اپتیکی لایه های نازک اکسید مس از دستگاه پراش اشعهایکس (XRD) و دستگاه طیف سنج Uv-Vis استفاده شد. نتایج XRD نشان می دهد که افزایش دمای زیرلایه سببرشد در جهت گیری های ترجیحی مختلف و افزایش اندازه کریستالیت ها از 19nm به 38nm می گردد. همچنین،نتایج طیف های اپتیکی نیز نشان دهنده کاهش گاف نواری لایه ها، با افزایش دمای زیرلایه است.

بررسی تاثیر دمای بستر بر خواص ساختاری و اپتیکی لایه های نازک اکسید مس Keywords:

بررسی تاثیر دمای بستر بر خواص ساختاری و اپتیکی لایه های نازک اکسید مس authors

خدیجه فرهادیان

دانشجوی کارشناسی ارشد، دانشکده مواد و صنایع، دانشگاه صنعتی نوشیروانی بابل ، بابل، ایران

مرضیه عباسی فیروزجاه

استادیار، گروه علوم مهندسی، دانشگاه حکیم سبزواری، سبزوار، ایران

مجید عباسی

دانشیار، دانشکده مواد و صنایع، دانشگاه صنعتی نوشیروانی بابل ، بابل، ایران

مقاله فارسی "بررسی تاثیر دمای بستر بر خواص ساختاری و اپتیکی لایه های نازک اکسید مس" توسط خدیجه فرهادیان، دانشجوی کارشناسی ارشد، دانشکده مواد و صنایع، دانشگاه صنعتی نوشیروانی بابل ، بابل، ایران؛ مرضیه عباسی فیروزجاه، استادیار، گروه علوم مهندسی، دانشگاه حکیم سبزواری، سبزوار، ایران؛ مجید عباسی، دانشیار، دانشکده مواد و صنایع، دانشگاه صنعتی نوشیروانی بابل ، بابل، ایران نوشته شده و در سال 1399 پس از تایید کمیته علمی نخستین کنفرانس ملّی مواد نوین پذیرفته شده است. کلمات کلیدی استفاده شده در این مقاله کندوپاش، اکسید مس، خواص ساختاری، خواص اپتیکی، گاف نواری هستند. این مقاله در تاریخ 19 فروردین 1400 توسط سیویلیکا نمایه سازی و منتشر شده است و تاکنون 429 بار صفحه این مقاله مشاهده شده است. در چکیده این مقاله اشاره شده است که در این پژوهش لایه های اکسید مس (CuO) به روش کندوپاش واکنشی روی زیرلایه های شیشه ای در دمای اتاق، 350˚Cلایه نشانی شده اند. فرایند لایه نشانی در فشار (2-)10×1 تور و نسبت گازهای O:Ar به ترتیب برابر 2:1انجام شد. برای مشخصه یابی و ارزیابی خواص ساختاری و اپتیکی لایه های نازک اکسید مس از دستگاه پراش اشعهایکس (XRD) و ... . برای دانلود فایل کامل مقاله بررسی تاثیر دمای بستر بر خواص ساختاری و اپتیکی لایه های نازک اکسید مس با 5 صفحه به فرمت PDF، میتوانید از طریق بخش "دانلود فایل کامل" اقدام نمایید.