تحلیل تاثیرپذیری الکترومغناطیسی خطوط ریزنوار ابررسانا در تابش مایل
Publish place: Journal of Applied Electeromagnetics، Vol: 9، Issue: 1
Publish Year: 1400
نوع سند: مقاله ژورنالی
زبان: Persian
View: 244
This Paper With 5 Page And PDF Format Ready To Download
- Certificate
- من نویسنده این مقاله هستم
استخراج به نرم افزارهای پژوهشی:
شناسه ملی سند علمی:
JR_ELEMAG-9-1_007
تاریخ نمایه سازی: 18 خرداد 1400
Abstract:
مدارهای مایکروویو ابررسانا از عنصرهایی متشکل از خطوط انتقال ابررسانا ساخته می شوند. هر چند که ابررساناها عملکرد سامانه را در سرعت بالا و کف نویز پایین فراهم می کند، اما تزویج میدان الکترومغناطیسی خارجی به آن ها می تواند در عملکرد این سیستم ها اختلال به وجود آورد. در این مطالعه ابتدا در حوزه طیفی یک رهیافت کلی جهت تحلیل رفتار الکترومغناطیسی ساختارهای ابررسانا در زوایای تابش مختلف ارائه می شود. سپس به کمک روش ارائه شده، تاثیرپذیری خطوط ریزنوار ابررسانا در تابش مایل مورد بررسی قرار می گیرد. این بررسی اثر ضخامت فیلم ابررسانا بر تاثیرپذیری خط را شامل می شود. مطابق با نتایج حاصل شده، بیشینه حساسیت پذیری برای تمام ضخامت ها با توجه به طول معمول به کار رفته در مدارات، در تابش با زاویه ۸۰ درجه اتفاق می افتد اما مقدار آن برای ضخامت های مختلف متفاوت است. رفتار متفاوت جریان القایی در ضخامت های مختلف به علت تفاوت در امپدانس معادل ساختار است. همچنین از آنجا که برای فیلم های نازک راکتانس معادل بیشتر است، میزان حساسیت پذیری کمتر می گردد.
Keywords:
Authors
محمدحسین امینی
گروه مهندسی برق و الکترونبک، دانشگاه شاهد، تهران، ایران
علیرضا ملاح زاده
گروه مهندسی برق و الکترونیک، دانشکده فنی و مهندسی، دانشگاه شاهد، تهران
مراجع و منابع این Paper:
لیست زیر مراجع و منابع استفاده شده در این Paper را نمایش می دهد. این مراجع به صورت کاملا ماشینی و بر اساس هوش مصنوعی استخراج شده اند و لذا ممکن است دارای اشکالاتی باشند که به مرور زمان دقت استخراج این محتوا افزایش می یابد. مراجعی که مقالات مربوط به آنها در سیویلیکا نمایه شده و پیدا شده اند، به خود Paper لینک شده اند :