ساخت لایه نیمه رسانای شفاف FTO برای کاربرد سلول خورشیدی
Publish place: 26th International Power System Conference
Publish Year: 1390
Type: Conference paper
Language: Persian
View: 7,224
متن کامل این Paper منتشر نشده است و فقط به صورت چکیده یا چکیده مبسوط در پایگاه موجود می باشد.
توضیح: معمولا کلیه مقالاتی که کمتر از ۵ صفحه باشند در پایگاه سیویلیکا اصل Paper (فول تکست) محسوب نمی شوند و فقط کاربران عضو بدون کسر اعتبار می توانند فایل آنها را دانلود نمایند.
- Certificate
- I'm the author of the paper
Export:
Document National Code:
PSC26_091
Index date: 17 March 2012
ساخت لایه نیمه رسانای شفاف FTO برای کاربرد سلول خورشیدی abstract
لایه های نیمه رسانای شفاف که به عنوان آند و کاتد در سلولهای خورشیدی مورد استفاده قرار میگیرند، دارای انواع متفاوتی هستند که اکسید قلع دوپ شده با فلورین(FTO ) جزء رایجترین آنها ست. در این مقاله لایه ناز ک FTO به دو روش مختلف چاپ توری و پیرولیز پاششی بر روی زیرلایه شیشهای پوشش داده شد. نتایج حاصل نشان داد که روش چاپ توری برای لایه نشانیFTO به منظور کاربرد سلول خورشیدی مناسب نمی باشد. برای لایه نشانیFTO به روش پیرولیز پاششی، دمای زیرلایه شیشه ای 450Cانتخاب شد. لایه های به دست آمده با روش پیرولیز پاششی، در منطقه مرئی Ω/□ 30را نور خورشید شفاف بوده و مقاومت سطحی حدود نشان دادند که برای کاربرد سلول خورشیدی مطلوب میباشد.
ساخت لایه نیمه رسانای شفاف FTO برای کاربرد سلول خورشیدی Keywords:
ساخت لایه نیمه رسانای شفاف FTO برای کاربرد سلول خورشیدی authors
فاطمه دبیر
پژوهشگاه نیرو و دانشگاه تربیت مدرس
رسول صراف ماموری
دانشگاه تربیت مدرس
نسترن ریاحی نوری
پژوهشگاه نیرو
مراجع و منابع این Paper:
لیست زیر مراجع و منابع استفاده شده در این Paper را نمایش می دهد. این مراجع به صورت کاملا ماشینی و بر اساس هوش مصنوعی استخراج شده اند و لذا ممکن است دارای اشکالاتی باشند که به مرور زمان دقت استخراج این محتوا افزایش می یابد. مراجعی که مقالات مربوط به آنها در سیویلیکا نمایه شده و پیدا شده اند، به خود Paper لینک شده اند :