مطالعه و بررسی نانوذرات اکسید لانتان تزریق شده با روی به عنوان گیت دی الکتریک مناسب در NVM های آینده

Publish Year: 1390
نوع سند: مقاله کنفرانسی
زبان: Persian
View: 1,162

This Paper With 5 Page And PDF Format Ready To Download

  • Certificate
  • من نویسنده این مقاله هستم

استخراج به نرم افزارهای پژوهشی:

لینک ثابت به این Paper:

شناسه ملی سند علمی:

NCNN01_052

تاریخ نمایه سازی: 17 اردیبهشت 1391

Abstract:

دراین کار پژوهشی درپی یافتن دی الکتریکی با ثابت دی الکتریک و دمای بلوری بالا برای گیت حافظه های دائمی NVM آینده هستیم به روش سل - ژل نانوذره های اکسید لانتان تزریق شده با روی را سنتز کردیم برای مطالعه ویژگیهای ساختار ماده ی به دست آمده از تکنیک پراش اشعه ایکس XRD استفاده کردیم برای بدست آوردن اندازه ی ذرات از تکنیک X-powder بهره گرفتیم همچنین برای بررسی خواص سطح از میکروسکوپ های نیروی اتمی AFM و الکترون روبشی SEM استفاده کردیم نتایج بدست آمده نشان داده اند که افزودن روی به اکسیدلانتان ساختار آن را به شدت آمورف می کند و از آنجا که اکسید روی نیز دی الکتریک خوبی به شمار می آید خاصیت دی الکتریکی اکسید لانتان را نیز تقویت می کندو باعث می شود دمای بلوری آن بالا رود.

Authors

زهرا خورشیدی میانایی

گروه فیزیک دانشگاه مازندران بابلسر

طیبه تقی پورلمراسکی

گروه فیزیک دانشگاه آزاد اسلامی واحد ساری

مراجع و منابع این Paper:

لیست زیر مراجع و منابع استفاده شده در این Paper را نمایش می دهد. این مراجع به صورت کاملا ماشینی و بر اساس هوش مصنوعی استخراج شده اند و لذا ممکن است دارای اشکالاتی باشند که به مرور زمان دقت استخراج این محتوا افزایش می یابد. مراجعی که مقالات مربوط به آنها در سیویلیکا نمایه شده و پیدا شده اند، به خود Paper لینک شده اند :
  • D. Tsoutsou, G. Scarel, A. Debernardi, S.C. Capelli, S.N. Volkos, ...
  • A. Bahari, A. Anasari, Z. Rahmani, Engineering and Technology Research, ...
  • J. A. Ng, Y. Kuroki, N. Sugii, K. Kakushima, S. ...
  • M. H. Chowdhury, M. A. Mannan, S. A. Mahmood, Emerging ...
  • نمایش کامل مراجع