مدلسازی عددی انتقال حرارت جابه جایی نانوسیال آب/ مس در یک کانال سینوسی تحت تاثیر میدان مغناطیسی
Publish place: 30th Annual International Conference of the Iranian Association of Mechanical Engineers
Publish Year: 1401
نوع سند: مقاله کنفرانسی
زبان: Persian
View: 204
This Paper With 6 Page And PDF and WORD Format Ready To Download
- Certificate
- من نویسنده این مقاله هستم
استخراج به نرم افزارهای پژوهشی:
شناسه ملی سند علمی:
ISME30_143
تاریخ نمایه سازی: 29 خرداد 1401
Abstract:
در این مطالعه، انتقال حرارت جابه جایی اجباری نانوسیال آب/ مس در یک کانال سینوسی تحت تاثیر میدان مغناطیسی به صورت آرام، پایا و تراکم ناپذیر در یک کانال سینوسی به روش عددی مورد بررسی قرار گرفته است. کسر حجمی نانوذرات ۳ درصد است. محدوده عدد رینولدز جریان ۵۰۰ ≤ Re ≤ ۱۰۰ است. اعمال میدان مغناطیسی در ۴ عدد هارتمن مختلف (۲۰، ۴۰، ۶۰ و ۸۰) مورد بررسی قرار گرفته است. شار حرارتی ثابت w⁄m^۲ ۱۰۰، در جداره های کانال اعمال شده است. معادلات اساسی حاکم به روش حجم محدود گسسته سازی می شوند و جهت ارتباط بین میدان سرعت و فشار از الگوریتم سیمپل استفاده شده است. از مدل ماکسول و مدل برینکمن به ترتیب برای رسانش حرارتی و وسکوزیته دینامیکی نانوسیال استفاده شده است. شبکه هندسه مورد نظر در مسئله حاضر شبکه سازمان یافته است. نتایج حاصل حاکی از آن است که با افزایش عدد هارتمن و دامنه موج نرخ حرارت منتقل شده بهبود یافته است. به نحوی که عدد ناسلت، با افزایش عدد هارتمن و دامنه موج به ترتیب حدود ۹/۱۴ و ۱۹/۲۴ درصد افزایش یافت.
Keywords:
Authors
نجات شیخ پور
دانشجوی دکتری، گروه مهندسی مکانیک، دانشکده فنی مهندسی، دانشگاه آزاد اسلامی واحد تهران مرکزی، تهران
آرش میرعبداله لواسانی
دانشیار، گروه مهندسی مکانیک، دانشکده فنی مهندسی، دانشگاه آزاد اسلامی واحد تهران مرکزی، تهران
غلامرضا صالحی
استادیار، گروه مهندسی مکانیک، دانشکده فنی مهندسی، دانشگاه آزاد اسلامی واحد تهران مرکزی، تهران