طراحی و ساخت سامانه لیتوگرافی مستقیم لیزری با دقت 1 میکرومتر
Publish place: 19th Iranian Conference on Electric Engineering
Publish Year: 1390
Type: Conference paper
Language: Persian
View: 1,560
This Paper With 6 Page And PDF Format Ready To Download
- Certificate
- I'm the author of the paper
Export:
Document National Code:
ICEE19_222
Index date: 4 August 2012
طراحی و ساخت سامانه لیتوگرافی مستقیم لیزری با دقت 1 میکرومتر abstract
یک سامانه لیتوگرافی لیزری برای تولید ماسک با دقت 1 میکرون طراحی و ساخته شده است درساخت سکوی X-Y ازحسگر جابجایی تداخل سنج مایکلسون با دقت 158/2nm بعنوان فیدبک جابجایی استفاده شده است درسیستم خودکانون از روش مبتنی برروش آستیگماتیسم استفاده شده است حساسیت سیستم خودکانون ساخته شده حدود20 mV/μm می باشد سرعت لیتوگرافی سامانه حدود 1/47mm/min و حداکثر ابعاد لیتوگرافی 2×2cm2 است سکوی سامانه قادر است تاجابجایی های ناخواسته ناشی از ضربه و نوسانات محیطی را بخوبی جبران واصلاح نماید پهنای خط متوسط سامانه 1mm با غیریکنواختی کمتر از 14% است.
طراحی و ساخت سامانه لیتوگرافی مستقیم لیزری با دقت 1 میکرومتر Keywords:
طراحی و ساخت سامانه لیتوگرافی مستقیم لیزری با دقت 1 میکرومتر authors
هومن نورائی
مجتمع برق و الکترونیک دانشگاه صنعتی مالک اشتر
مراجع و منابع این Paper:
لیست زیر مراجع و منابع استفاده شده در این Paper را نمایش می دهد. این مراجع به صورت کاملا ماشینی و بر اساس هوش مصنوعی استخراج شده اند و لذا ممکن است دارای اشکالاتی باشند که به مرور زمان دقت استخراج این محتوا افزایش می یابد. مراجعی که مقالات مربوط به آنها در سیویلیکا نمایه شده و پیدا شده اند، به خود Paper لینک شده اند :