طراحی و ساخت سامانه لیتوگرافی مستقیم لیزری با دقت 1 میکرومتر
Publish place: 19th Iranian Conference on Electric Engineering
Publish Year: 1390
نوع سند: مقاله کنفرانسی
زبان: Persian
View: 1,500
This Paper With 6 Page And PDF Format Ready To Download
- Certificate
- من نویسنده این مقاله هستم
استخراج به نرم افزارهای پژوهشی:
شناسه ملی سند علمی:
ICEE19_222
تاریخ نمایه سازی: 14 مرداد 1391
Abstract:
یک سامانه لیتوگرافی لیزری برای تولید ماسک با دقت 1 میکرون طراحی و ساخته شده است درساخت سکوی X-Y ازحسگر جابجایی تداخل سنج مایکلسون با دقت 158/2nm بعنوان فیدبک جابجایی استفاده شده است درسیستم خودکانون از روش مبتنی برروش آستیگماتیسم استفاده شده است حساسیت سیستم خودکانون ساخته شده حدود20 mV/μm می باشد سرعت لیتوگرافی سامانه حدود 1/47mm/min و حداکثر ابعاد لیتوگرافی 2×2cm2 است سکوی سامانه قادر است تاجابجایی های ناخواسته ناشی از ضربه و نوسانات محیطی را بخوبی جبران واصلاح نماید پهنای خط متوسط سامانه 1mm با غیریکنواختی کمتر از 14% است.
Keywords:
Authors
هومن نورائی
مجتمع برق و الکترونیک دانشگاه صنعتی مالک اشتر
مراجع و منابع این Paper:
لیست زیر مراجع و منابع استفاده شده در این Paper را نمایش می دهد. این مراجع به صورت کاملا ماشینی و بر اساس هوش مصنوعی استخراج شده اند و لذا ممکن است دارای اشکالاتی باشند که به مرور زمان دقت استخراج این محتوا افزایش می یابد. مراجعی که مقالات مربوط به آنها در سیویلیکا نمایه شده و پیدا شده اند، به خود Paper لینک شده اند :