سیویلیکا را در شبکه های اجتماعی دنبال نمایید.

تاثیر استفاده از پیش پالس و هدف نانوساختار بر میزان گسیل پرتو ایکس از پلاسمای تولید شده به وسیله لیزرهای پرتوان

Publish Year: 1389
Type: Journal paper
Language: Persian
View: 153

This Paper With 5 Page And PDF Format Ready To Download

Export:

Link to this Paper:

Document National Code:

JR_PSI-10-3_004

Index date: 30 October 2023

تاثیر استفاده از پیش پالس و هدف نانوساختار بر میزان گسیل پرتو ایکس از پلاسمای تولید شده به وسیله لیزرهای پرتوان abstract

در این مقاله تاثیر استفاده از پیش پالس لیزری بر میزان افزایش پرتو ایکس ترمزی از اهداف فلزی نانو ساختار تحت تابش پالس لیزری پرتوان بررسی می شود. میزان گسیل پرتو ایکس از اهداف معمولی و نانو ساختار مقایسه شده است. محاسبات نشان می دهند که با انتخاب یک چگالی مناسب برای لایه نانویی، میزان تابش پرتو افزایش قابل توجهی خواهد داشت. همچنین استفاده از یک پیش پالس لیزری با شدت و فاصله زمانی مناسب نسبت به پالس اصلی می تواند موجب افزایش بیشتر تابش پرتو از هدف نانو ساختار شود. هنگامی که شدت پیش پالس از یک مقدار مشخص (۱۰۱۳W/cm۲) بیشتر شود، فرآیند افزایش، تضعیف خواهد شد. تاثیر فاصله زمانی بین پیش پالس و پالس اصلی نیز بررسی شده است.

تاثیر استفاده از پیش پالس و هدف نانوساختار بر میزان گسیل پرتو ایکس از پلاسمای تولید شده به وسیله لیزرهای پرتوان Keywords:

تاثیر استفاده از پیش پالس و هدف نانوساختار بر میزان گسیل پرتو ایکس از پلاسمای تولید شده به وسیله لیزرهای پرتوان authors

رضا فاضلی

دانشگاه علم و صنعت ایران

محمدحسین مهدیه

دانشگاه علم و صنعت ایران

مولاداد نیکبخت

دانشگاه علم و صنعت ایران

مهدی شیرماهی

دانشگاه علم و صنعت ایران