بررسی الکترواپتیکی لایه های نازک اکسید تنگستن و اکسید وانادیوم به منظور طراحی قطعه الکتروکرومیک
Publish place: The Physics Society Of Iran، Vol: 14، Issue: 4
Publish Year: 1393
نوع سند: مقاله ژورنالی
زبان: Persian
View: 51
This Paper With 9 Page And PDF Format Ready To Download
- Certificate
- من نویسنده این مقاله هستم
استخراج به نرم افزارهای پژوهشی:
شناسه ملی سند علمی:
JR_PSI-14-4_003
تاریخ نمایه سازی: 8 آبان 1402
Abstract:
در این مطالعه لایههای نازک الکتروکرومیک اکسید تنگستن و اکسید وانادیوم به روش فیزیکی تبخیر حرارتی در خلا در ضخامت ۲۰۰ نانومتر بر روی زیر لایه هادی شفاف SnO۲:F جایگذاری شده و مورد مطالعه اپتیکی در بازه طول موج ۴۰۰ تا ۷۰۰ نانومتر و مطالعه الکتریکی در بازه پتانسیل ۵/۱- تا ۵/۱+ ولت قرار گرفتهاند. همچنین این لایهها به منظور بررسی میزان تغییر گاف انرژی با دما، در دماهای ۱۲۰، ۳۰۰ و ۵۰۰ درجه سیلسیوس بازپخت شدند. ضرایب شکست و خاموشی و نوع گذار این لایهها در محدوده نور مرئی در ضخامت ۲۰۰ نانومتر تعیین و اندازهگیری شدهاند. همچنین طرح الگوی پراش اشعه X و تصویر SEM و چرخه ولتامتری لایهها نیز مورد مطالعه قرار گرفتهاند. نتایج این مطالعه با توجه به نوع لایه نشانی، ضخامت انتخاب شده لایهها، نوع زیرلایه انتخابی، بازه دماهای بازپخت و الکترولیت انتخاب شده، در تطابق کامل با کار دیگر محققین است. بنابراین، این لایهها با دارا بودن خصوصیاتی نظیر ساختار بلوری، ضرایب شکست و خاموشی یکنواخت در محدوده نور مرئی، پاسخ دهی مناسب کرومیکی در تکرار سوئیچهای پتانسیلی، چسبندگی خوب به زیرلایه، و میزان درصد عبور اپتیکی بالا، بکارگیری در یک قطعه الکترکرومیک کامل را پیشنهاد میکنند
Keywords:
Authors
حامد نجفی آشتیانی
گروه فیزیک، دانشگاه ولایت، ایرانشهر
محمد سعید هادوی
گروه فیزیک، دانشگاه سیستان و بلوچستان، زاهدان
مراجع و منابع این Paper:
لیست زیر مراجع و منابع استفاده شده در این Paper را نمایش می دهد. این مراجع به صورت کاملا ماشینی و بر اساس هوش مصنوعی استخراج شده اند و لذا ممکن است دارای اشکالاتی باشند که به مرور زمان دقت استخراج این محتوا افزایش می یابد. مراجعی که مقالات مربوط به آنها در سیویلیکا نمایه شده و پیدا شده اند، به خود Paper لینک شده اند :