تحلیل فرکتالی ویژگی های سطح لایه های نازک اکسید ایندیوم قلع

در این تحقیق، لایه های نازک اکسید ایندیوم آلاییده با قلع ( ITO ) در ضخامت های مختلف به روش تبخیر با پرتو الکترونی بر روی بستره شیشه ای در دمای اتاق تهیه شده است. ضخامت لایه ها ۱۰۰ ، ۱۵۰ و ۲۵۰ نانومتر می باشد. با استفاده از تحلیل فرکتالی، فرآیند رشد لایه (افزایش ضخامت) بر خصوصیات مورفولوژیکی سطح در حالت آمورف مورد بررسی قرار گرفت. مشاهده شد که با افزایش ضخامت، ناهمواری سطح ( RMS ) w و طول همبستگی عرضی x کاهش پیدا می کند. همچنین، نمای ناهمواری α و نمای رشد β ، به ترتیب برابر α =۰.۷۲±۰.۰۱ و β=۰.۱۱±۰.۰۱ ، به دست آمد. بر اساس این نتایج، دریافتیم که فرآیند رشد لایه ها را میتوان به صورت ترکیبی از مدل های خطی EW و پخش سطحی مولینز توصیف نمود.

Keywords:

اکسید ایندیوم آلاییده با قلع (ITO) , لایه نازک , آنالیز فرکتالی , مورفولوژی