تاثیر غلظت آلاینده اکسید قلع بر خواص ساختاری و اپتیکی لایه های نازک اکسید ایندیم تهیه شده به روش تبخیر با باریکه الکترونی

در این کار تجربی لایه های نازک اکسید ایندیم آلاییده با اکسید قلع  (ITO) با ترکیب های مختلفی از ۶۰ تا wt%۹۵ اکسید ایندیم و ۴۰ تا wt%۵ اکسید قلع با استفاده از روش تبخیر با باریکه الکترونی بر روی زیرلایه های شیشه ای نهشته شدند. لایه ها پس از نهشت، به مدت ۳ ساعت در هوا در دمای C۴۵۰ تحت عملیات حرارتی قرار گرفتند. تاثیر غلظت آلاینده اکسید قلع با تغییر غلظت آن از ۵ تا wt%۴۰ بر روی خواص ساختاری و اپتیکی این لایه ها بررسی و مشاهده شد که با افزایش غلظت آلاینده تا wt%۲۰، گاف باندی و اندازه دانه ها افزایش می یابد. بیشترین گاف انرژی و بیشترین اندازه دانه به ترتیب برابر eV۷۱/۳ و nm۲۳ در لایه های با wt%۲۰ اکسید قلع برآورد گردید.

Keywords:

اکسید ایندیم آلاییده با قلع , عملیات حرارتی , گاف انرژی , اندازه دانه