بررسی تاثیر ترکیب شیمیائی آندهای ریختگی مس برروی رفتار پسیو شدن در طی فرآیند پالایش الکتریکی مجتمع مس سرچشمه

پسیو شدن مس یکی از مه م ترین پدیـده هـا در فرآینـد پـالایش الکتریکـی مـس میباشـد . بـدلیل ماهیـت الکتروشیمیائی فرآیند پالایش، روشهای مختلف الکتروشیمیائی جهت مطالعـة رفتـار پسـیو شـدن آنـدهای مسی مورد استفاده قرار گرفته است . در تحقیق حاضر از تست گالوانواستاتیک ( کرونوپتانسیومتری ) بـرای بررسی رفتار پسـیو شـدن نمونـه هـای آنـد تجـارتی و همچنـین مـس خـالص کاتـدی در حضـور محلـول الکترولیت صنعتی کمک گرفته شد . بر طبق نتایج حاصل یک مدل دولایه ای شامل یـک لایـه بـا ماهیـت الکتروشیمیائی ( فیلم پسیو ) و یک لایه با جذب فیزیکی ( لایة لجـن ) بـرروی سـطح مشـاهده گردیـد . بـرای رسیدن به را بطه ای میان مورفولوژی لایه های سطحی و رفتار پسیو شدن، آنالیزهای SEM و EDS یکبار در حضور لایة لجن و بار دیگر پـس از حـذف آن مـورد اسـتفاده قـرار گرفـت . نتـایج حاصـل نشـان دهنـدة حساسیت بالای تست گالوانواستاتیک در نشان دادن زمان پسیو شـدن ) ) tp بـوده و دربرگیرنـدة چهارناحیـ1- انحلال فعال 2-مرحله قبل از پسیو شدن3- شـروع فرآینـد پسـیو شـدن و4- پسـیو شـدن کامـل بـرای نمونه های تجارتی و تنها ناحیه انحلال فعال برای مس خالص تحت شرایط آزمایش میباشد .

Keywords:

پسیو شدن مس , پالایش الکتریکی , گالوانواستاتیک , پتانسیودینامیک , مورفولوژی لایه های سطحی