بررسی تاثیردواکسیدفلز ZrO2 و 2 HfO باثابت دی الکتریک بالا بر کارکرد نانوخازن های فلز - عایق - فلزMIM Nano Capacitors
Publish Year: 1392
نوع سند: مقاله کنفرانسی
زبان: Persian
View: 826
This Paper With 5 Page And PDF Format Ready To Download
- Certificate
- من نویسنده این مقاله هستم
استخراج به نرم افزارهای پژوهشی:
شناسه ملی سند علمی:
ICEEE05_106
تاریخ نمایه سازی: 3 آذر 1392
Abstract:
دراین مقاله به بررسی دونوع ازخازنهای فلز - عایق - فلز که درابعاد نانومتری پیاده سازی شده اند پرداخته شده است درخازنهای بکارگرفته شده لایه های عایق بین دو الکترود خازن متفاوت درنظر گرفته شده است دریکی هافنیوم دی اکسید و زیرکنیوم دی اکسید بصورت ترکیبی ازلایه های عایق به همراه سیلیکون دی اکسید لایه عایق بین دو الکترود راتشکیل میدهند و دردگیری باریم اکسید به همراه هافنیوم دی اکسید و سیلیکون دی اکسید بصورت لایه های روی هم نقش لایه عایق را به عهده دارند با اعمال ولتاژ متغیر از-3تا+3 ولت درنرم افزارNextNano3 عملکرد الکترون و حفره و درنهایت رفتار جریان خازن ها بررسی شده است بامقایسه رفتاراین دونوع خازن مشاهده شده که با انتخاب مناسب اکسیدهای موادمختلف میتوان جریان نشتی این خازن ها را به حداقل رساند
Keywords:
Authors
حسین موحدی علی آباد
دانشجوی کارشناسی ارشدبرق الکترونیک
مجید شکری
دانشجوی کارشناسی ارشدبرق الکترونیک
رامین وقارموسوی
دانشجوی کارشناسی ارشدبرق الکترونیک
محمدحسین غلامیان
دانشجوی کارشناسی ارشدبرق الکترونیک
مراجع و منابع این Paper:
لیست زیر مراجع و منابع استفاده شده در این Paper را نمایش می دهد. این مراجع به صورت کاملا ماشینی و بر اساس هوش مصنوعی استخراج شده اند و لذا ممکن است دارای اشکالاتی باشند که به مرور زمان دقت استخراج این محتوا افزایش می یابد. مراجعی که مقالات مربوط به آنها در سیویلیکا نمایه شده و پیدا شده اند، به خود Paper لینک شده اند :