فرمول بندی معادلات در واکنش های انجام شده در راکتور PECVD جهت تولید نانو ذرات و رسوب گذاری لایه های نازک سیلیکون آمورف
Publish place: The First National Conference on Innovations in Thin Film Processing and Their Characterization
Publish Year: 1390
نوع سند: مقاله کنفرانسی
زبان: Persian
View: 951
This Paper With 7 Page And PDF Format Ready To Download
- Certificate
- من نویسنده این مقاله هستم
استخراج به نرم افزارهای پژوهشی:
شناسه ملی سند علمی:
THINFILM01_038
تاریخ نمایه سازی: 3 آذر 1392
Abstract:
در این مقاله، یک مدل شاره ای دو بعدی برای شبیه سازی تخلیه الکتریکی با فرکانس رادیویی (rf ) در یک راکتور PECVD به کار گرفته شده است. این نوع مدل سازی قادر است فرایند شکل گیری ذرات با ابعاد نانو را در محیط تخلیه الکتریکی راکتور تا رسوب سیلیکون آمورف بر روی یک زیر لایه و تشکیل لایه های نازک را توصیف نماید. در این کار، همچنین مهم ترین فرآیندهای معرفی شده شیمیایی در محیط پلاسما در نظر گرفته شده است. یعنی گونه های مختلف باردار و رادیکال ها، واکنش های گوناگون الکترون با ذرات خنثی و سایر واکنش های شیمیایی مد نظر است. در طول تخلیه الکتریکی رادیکال هایی تولید می شود که ابعاد نانو دارند. این رادیکال ها همان نانو ذرات هستند که روی زیرلایه ها رسوب می کنند و لایه های نازک تولید می شود. در واقع در این مقاله ما، واکنش های شیمیایی انجام شده در راکتور را بررسی کرده و معادلات حاکم بر ذرات و محیط راکتور را جمع آوری کرده ایم. این معادلات شامل معادلاتعادل چگالی و شار برای گونه های مختلف، معادله ی پواسون برای پتانسیل و معادله ی انرژی الکترون می باشد.
Keywords:
Authors
زهرا دهقانی فرد
دانشگاه تحصیلات تکمیلی کرمان
علیرضا اشرف گنجویی
مرکز بین المللی علوم و تکنولوژی پیشرفته و علوم محیطی
محمد آقا بلوریزاده
دانشگاه تحصیلات تکمیلی کرمان
علیرضا احمدی
دانشگاه تحصیلات تکمیلی کرمان
مراجع و منابع این Paper:
لیست زیر مراجع و منابع استفاده شده در این Paper را نمایش می دهد. این مراجع به صورت کاملا ماشینی و بر اساس هوش مصنوعی استخراج شده اند و لذا ممکن است دارای اشکالاتی باشند که به مرور زمان دقت استخراج این محتوا افزایش می یابد. مراجعی که مقالات مربوط به آنها در سیویلیکا نمایه شده و پیدا شده اند، به خود Paper لینک شده اند :