الکتروانباشت بس لایه های فلزی Co-Cu /Cu بر روی Ti و بررسی ریزساختار آنها
Publish place: Iranian Physics Conference 1385
Publish Year: 1385
نوع سند: مقاله کنفرانسی
زبان: Persian
View: 2,538
متن کامل این Paper منتشر نشده است و فقط به صورت چکیده یا چکیده مبسوط در پایگاه موجود می باشد.
توضیح: معمولا کلیه مقالاتی که کمتر از ۵ صفحه باشند در پایگاه سیویلیکا اصل Paper (فول تکست) محسوب نمی شوند و فقط کاربران عضو بدون کسر اعتبار می توانند فایل آنها را دریافت نمایند.
- Certificate
- من نویسنده این مقاله هستم
استخراج به نرم افزارهای پژوهشی:
شناسه ملی سند علمی:
IPC85_020
تاریخ نمایه سازی: 13 بهمن 1385
Abstract:
بس لایه های فلزی Cu-Co/Cu از الکترولیتی حاوی سولفات مس و کبالت در حضور H3BO3 بر روی زیر لایه پلی کریستال Ti . به روش الکتروانباشت تهیه شدند طیف XRD این بس لایه ها به منظور بررسی ریز ساختار آنها مورد مطالعه قرار گرفت، مشاهده پیک های اقماری در این طیف وجود فصل مشترک تیز بین زوج لایه های CuوCo-Cuرا بیان می کند . سپس با استفاده از میکروسکوپ الکترونی روبشی(SEM) خواص سطحی این بس لایه ها نیز مورد بررسی و مطالعه قرار گرفت .
Authors
ایرج کاظمی نژاد
دانشگاه شهید چمران اهواز، دانشکده علوم، گروه فیزیک
مرجان ذاکرین
دانشگاه شهید چمران اهواز، دانشکده علوم، گروه فیزیک
هوشنگ پرهام
دانشگاه شهید چمران اهواز، دانشکده علوم، گروه فیزیک
مراجع و منابع این Paper:
لیست زیر مراجع و منابع استفاده شده در این Paper را نمایش می دهد. این مراجع به صورت کاملا ماشینی و بر اساس هوش مصنوعی استخراج شده اند و لذا ممکن است دارای اشکالاتی باشند که به مرور زمان دقت استخراج این محتوا افزایش می یابد. مراجعی که مقالات مربوط به آنها در سیویلیکا نمایه شده و پیدا شده اند، به خود Paper لینک شده اند :