نانولیتوگرافی برروی لایه پلیمری بوسیله AFM و بررسی اثر نیروی سوزن میکروسکوپ برروی کیفیت الگوها
Publish place: 8th Conference on Condensed Matter
Publish Year: 1385
Type: Conference paper
Language: Persian
View: 2,372
متن کامل این Paper منتشر نشده است و فقط به صورت چکیده یا چکیده مبسوط در پایگاه موجود می باشد.
توضیح: معمولا کلیه مقالاتی که کمتر از ۵ صفحه باشند در پایگاه سیویلیکا اصل Paper (فول تکست) محسوب نمی شوند و فقط کاربران عضو بدون کسر اعتبار می توانند فایل آنها را دانلود نمایند.
- Certificate
- I'm the author of the paper
Export:
Document National Code:
CMC08_113
Index date: 22 February 2007
نانولیتوگرافی برروی لایه پلیمری بوسیله AFM و بررسی اثر نیروی سوزن میکروسکوپ برروی کیفیت الگوها abstract
در این کار پژوهشی با استفاده از دستگاه میکروسکوپ نیروی اتمی (AFM) الگوهایی بروی لایه ماسک پلیمر فوتورزیست که برروی بستر LiTaO3 بروش لایه نشانی لایه نشانی گشته است،ایجاد گردید . پلیمر فوتورزیست به عنوان لایه ماسک در تکنولوژی ساخت قطعات میکرو الکترونیک کاربرد دارد . در (spin coating)چرخشی برروی لایه ماسک ایجاد گردید،همچنین اثر افزایش نیروی اعمال شده از طرف AFM نانومتر بوسیله نوک سوزن میکروسکوپ 20 تا 5 این فرایند الگوهایی در ابعاد نوک سوزن برروی عمق و کیفیت الگوها بررسی گردید .
نانولیتوگرافی برروی لایه پلیمری بوسیله AFM و بررسی اثر نیروی سوزن میکروسکوپ برروی کیفیت الگوها authors
محمد عبدالاحد
دانشکده فیزیک دانشگاه صنعتی شریف، تهران
امید اخوان
دانشکده فیزیک دانشگاه صنعتی شریف، تهران
سودابه واثقی نیا
دانشکده فیزیک دانشگاه صنعتی شریف، تهران
علیرضا مشفق
دانشکده فیزیک دانشگاه صنعتی شریف، تهران، پژوهشکده علوم و فناوری نان
مراجع و منابع این Paper:
لیست زیر مراجع و منابع استفاده شده در این Paper را نمایش می دهد. این مراجع به صورت کاملا ماشینی و بر اساس هوش مصنوعی استخراج شده اند و لذا ممکن است دارای اشکالاتی باشند که به مرور زمان دقت استخراج این محتوا افزایش می یابد. مراجعی که مقالات مربوط به آنها در سیویلیکا نمایه شده و پیدا شده اند، به خود Paper لینک شده اند :