بررسی اتصال اهمی Ni/Cu لایه نشانی شده توسط روش الکتروشیمیایی بر روی سیلیکان چند بلوری برای سلولهای خورشیدی
Publish place: Iranian Physics Conference 1384
Publish Year: 1384
نوع سند: مقاله کنفرانسی
زبان: Persian
View: 1,759
متن کامل این Paper منتشر نشده است و فقط به صورت چکیده یا چکیده مبسوط در پایگاه موجود می باشد.
توضیح: معمولا کلیه مقالاتی که کمتر از ۵ صفحه باشند در پایگاه سیویلیکا اصل Paper (فول تکست) محسوب نمی شوند و فقط کاربران عضو بدون کسر اعتبار می توانند فایل آنها را دریافت نمایند.
- Certificate
- من نویسنده این مقاله هستم
استخراج به نرم افزارهای پژوهشی:
شناسه ملی سند علمی:
IPC84_090
تاریخ نمایه سازی: 5 اسفند 1385
Abstract:
در این مقاله ساختار اتصال Ni/Cu بر روی کریستال بس بلور سیلیکان به روش الکتروشیمیایی مورد بررسی قرار گرفته است . چنین ساختاری به دلیل کم هزینه بودن، مقاومت پایین، چسبندگی خوب و استفاده آسان، مورد توجه قرار گرفته است . در این ساختار نیکل به عنوان سدی برای جلوگیری از نفوذ مس به زیرلایه سیلیکان و همچنین برای به وجود آوردن اتصال اهمی مورد استفاده واقع می شود . از مس نیز به علت مقاومت الکتریکی پایین آن و همچنین مقاومت بالای آنها در برابر مهاجرت الکترونها استفاده میشود
Authors
نگین معنوی زاده
آزمایشگاه تحقیقاتی لایه های نازک، گروه مهندسی برق وکامپیوتر، دانشک
رشید صفاایسینی
آزمایشگاه ت
ابراهیم اصل سلیمانی
آزمایشگاه تحقیقاتی لایه های نازک، گروه مهندسی برق وکامپیوتر، دانشک
فاطمه دهقان نیری
آزمایشگاه تحقیقاتی لایه های نازک، گروه مهندسی برق وکامپیوتر، دانشک
مراجع و منابع این Paper:
لیست زیر مراجع و منابع استفاده شده در این Paper را نمایش می دهد. این مراجع به صورت کاملا ماشینی و بر اساس هوش مصنوعی استخراج شده اند و لذا ممکن است دارای اشکالاتی باشند که به مرور زمان دقت استخراج این محتوا افزایش می یابد. مراجعی که مقالات مربوط به آنها در سیویلیکا نمایه شده و پیدا شده اند، به خود Paper لینک شده اند :