بررسی اثردما برسرعت رسوب گذاری وخواص پوشش TiN درفرایندCVD

دراین پژوهش نقش دما بررسوب گذاری TIN به روش CVD دریک راکتور افقی بررسی گردید نتایج بدست آمده نشان میدهد که با افزایش دما سرعت رسوب گذاری افزایش می یابد درمحدوده دمایی 960 تا 1130 درجه سانتیگراد سرعت انجام واکنش درسطح کنترل کننده سرعت رسوب گذاری است و انرژی اکتیواسیون لازم برای انجام واکنش حدود 96 کیلوژول برمول است نتایج بدست آمده همچنین نشان میدهد که با افزایش دمای زبری سطح و اندازه دانه رسوب TIN کاهش و سختی پوشش افزایش می یابد

Keywords:

راکتور افقی , CVD , TIN , سرعت رسوب گذاری , زبری سطح , اندازه دانه , سختی