SCEs Investigation of Tri-Gate SOI FinFET in Different Channel Lengthes
Publish Year: 1394
نوع سند: مقاله کنفرانسی
زبان: English
View: 486
This Paper With 7 Page And PDF Format Ready To Download
- Certificate
- من نویسنده این مقاله هستم
استخراج به نرم افزارهای پژوهشی:
شناسه ملی سند علمی:
CRSTCONF01_108
تاریخ نمایه سازی: 27 اسفند 1394
Abstract:
compact scaling length for Tri-gate SOI FinFET is presented based on a 3-D simulation. SCEs of FinFETs can be controlled by changing the gate length.Changing channel length is between 10 to 100 nm. output characteristics, transfer characteristic, threshold voltage, subthreshold slope and drain induced barrier lowering (DIBL), gm, ION/IOFF ratio, ro are investigated
Keywords:
Authors
B Fakhr
Department of Electrical Engineering, Neyshabur Branch, Islamic Azad Universit, Neyshabur, Iran
S.E Hosseini
Department of Electrical Engineering, Ferdowsi University of Mashhad,Mashhad, Iran
مراجع و منابع این Paper:
لیست زیر مراجع و منابع استفاده شده در این Paper را نمایش می دهد. این مراجع به صورت کاملا ماشینی و بر اساس هوش مصنوعی استخراج شده اند و لذا ممکن است دارای اشکالاتی باشند که به مرور زمان دقت استخراج این محتوا افزایش می یابد. مراجعی که مقالات مربوط به آنها در سیویلیکا نمایه شده و پیدا شده اند، به خود Paper لینک شده اند :