آنالیز و شبیه سازی ترانزیستورهای SOI-MOSFET با نواحی سورس و درین الکتریکی برای بهبود آثار کوچک سازی کانال
Publish place: 16th Iranian Conference on Electric Engineering
Publish Year: 1387
Type: Conference paper
Language: Persian
View: 5,070
This Paper With 5 Page And PDF Format Ready To Download
- Certificate
- I'm the author of the paper
Export:
Document National Code:
ICEE16_289
Index date: 25 February 2008
آنالیز و شبیه سازی ترانزیستورهای SOI-MOSFET با نواحی سورس و درین الکتریکی برای بهبود آثار کوچک سازی کانال abstract
در این مقاله یک ترانزیستور میدان نوین در تکنولوژی سیلیسیم روی عایق آنالیز و شبیه سازی شده است. در این ترانزیستور از نواحی سورس و درین الکتریکی برای بهبود آثار کوچک سازی سول کانال استفاده شده است. با استفاده از یک شبیه ساز دو بعدی پارامترهای گوناگون این ترانزیستور از قبیل مشخصه خروجی، ولتاژ آستانه، میدان الکتریکی و دمای الکترون ها مورد بررسی و تجزیه و تحلیل قرار می گیرند. همچنینی مشخصات فوق با مشخصات یک ترانزیستور مشابه اما بدون نواحی سورس و درین الکتریکی مقایسه می گردند. نتایج شبیه سازی ها نشان می دهند که این ترانزیستورها می توانند نقش مهمی در جهت کاهش ابعاد ترانزیستورها و افزایش قابلیت اطمینان در آنها داشته باشند.
آنالیز و شبیه سازی ترانزیستورهای SOI-MOSFET با نواحی سورس و درین الکتریکی برای بهبود آثار کوچک سازی کانال Keywords:
آنالیز و شبیه سازی ترانزیستورهای SOI-MOSFET با نواحی سورس و درین الکتریکی برای بهبود آثار کوچک سازی کانال authors
علی اصغر اروجی
دانشگاه سمنان
مراجع و منابع این Paper:
لیست زیر مراجع و منابع استفاده شده در این Paper را نمایش می دهد. این مراجع به صورت کاملا ماشینی و بر اساس هوش مصنوعی استخراج شده اند و لذا ممکن است دارای اشکالاتی باشند که به مرور زمان دقت استخراج این محتوا افزایش می یابد. مراجعی که مقالات مربوط به آنها در سیویلیکا نمایه شده و پیدا شده اند، به خود Paper لینک شده اند :