بهبود پروفیل ولتاژ در حضور تولید پراکنده با استفاده از نصب یک SVC و بهینه سازی با الگوریتم رقابت استعماری (ICA)
Publish Year: 1394
Type: Conference paper
Language: Persian
View: 577
This Paper With 8 Page And PDF Format Ready To Download
- Certificate
- I'm the author of the paper
Export:
Document National Code:
EMIS01_035
Index date: 1 November 2016
بهبود پروفیل ولتاژ در حضور تولید پراکنده با استفاده از نصب یک SVC و بهینه سازی با الگوریتم رقابت استعماری (ICA) abstract
هدف اصلی تحقیق بهبود پروفیل ولتاژ در شبکه قدرت با استفاده از نوعی از ادوات FACTS می باشد. منابع تولید پراکنده شامل توربین بادی و سلولهای فتوولتائیک در بخش هایی از شبکه استفاده شده است و هدف اصلی ثابت ماندن ولتاژ رسیده به مصرف کننده توسط تنظیم توان تولیدی و توان درخواستی می باشد. شبکه مورد بررسی به تنهایی از ولتاژ نامی انحرافذ زیادی داشت که برای بهبود این موضوع از نصب SVC در یک باس استفاده شده است. هدف ما دستیابی به کمترین میزان انحراف از ولتاژ نامی با یافتن بهترین باس برای نصب این SVC بود که در آن از الگوریتم رقابت استعماری استفاده کردیم. مشاهده شد که در روش پیشنهادی نسبت به روش های قبل از درصد انحراف ولتاژ کمتر شده است که بهبود روش ما نسبت به الگوریتم هایی مانند GA را نشان می دهد.
بهبود پروفیل ولتاژ در حضور تولید پراکنده با استفاده از نصب یک SVC و بهینه سازی با الگوریتم رقابت استعماری (ICA) Keywords:
بهبود پروفیل ولتاژ در حضور تولید پراکنده با استفاده از نصب یک SVC و بهینه سازی با الگوریتم رقابت استعماری (ICA) authors
محمد بغدادی
گروه مهندسی برق، واحد علی آباد کتول، دانشگاه آزاد اسلامی، علی آباد کتول، ایران
عبدالعزیز کلته
گروه مهندسی برق، واحد علی آباد کتول، دانشگاه آزاد اسلامی، علی آباد کتول،ایران
امانگلدی کوچکی
گروه مهندسی برق، واحد علی آباد کتول، دانشگاه آزاد اسلامی، علی آباد کتول، ایران
مراجع و منابع این Paper:
لیست زیر مراجع و منابع استفاده شده در این Paper را نمایش می دهد. این مراجع به صورت کاملا ماشینی و بر اساس هوش مصنوعی استخراج شده اند و لذا ممکن است دارای اشکالاتی باشند که به مرور زمان دقت استخراج این محتوا افزایش می یابد. مراجعی که مقالات مربوط به آنها در سیویلیکا نمایه شده و پیدا شده اند، به خود Paper لینک شده اند :