سیویلیکا را در شبکه های اجتماعی دنبال نمایید.

بررسی لیتوگرافی و اچینگ در طراحی نیمه هادی های با کیفیت بهتر

Publish Year: 1395
Type: Conference paper
Language: Persian
View: 1,797

This Paper With 20 Page And PDF Format Ready To Download

Export:

Link to this Paper:

Document National Code:

COMCONF02_217

Index date: 24 January 2017

بررسی لیتوگرافی و اچینگ در طراحی نیمه هادی های با کیفیت بهتر abstract

برای تولید مدار مجتمع از فیلم های باریک با مواد مختلف، به عنوان لایه های محافظ جهت افزودن و یا کشت اتم های ناخالصی و یا به عنوان عایق عیان مواد رسانا و سیلیکون زیر لایه استفاده می شود و ماسک ها شامل الگویی از پنجره هایی هستند که تحت فرایندی که فتولیتوگرافی خوانده می شود به روی سطح سیلیکون منتقل می شوند.فتولیتوگرافی تعام مراحل درگیر در انتقال الگو از یک ماسک برروی سطح سیلیکون و بیقرراداراعی باشد. یکی از شرایط و فرایند مهم تهیه و بیقرهای پاک در اتاق پاک و تمیز می باشد. پاکسازی و بفر خود به قتهایی یک قرایند دقیقی را طلب می کند. تمیزی سطح ویفر برای تنظیم ماسک جهت انجام پخت های نرم وسخت، ایجاد لایه محافظ بافتور زیست، تمیز کردن تعام پنجره ها، تابشی نور به فتور زیست،انجام مراحل مختلف اچینگ ودرنہایت حذف تمام فتور زیست هامی تواند مارادرطراحی ایک نیمه هاری خوب و با کیفیت بالاو هم چنین در تهیه یک عدار مجتمع قابل قبول و بهره برداری از آن برای پروژه های عظیم الکترونیکی یاری نماید. در صورت اجرای دقیق شرایط ۱۰گانه فرآیند لیتوگرافی یک نیمه هادی با کیفیت قابل قبول می توان ارائه داد.

بررسی لیتوگرافی و اچینگ در طراحی نیمه هادی های با کیفیت بهتر Keywords:

لیتو گرافی. Etchingقتور زیست.Masksسیلیکون.WafeI.oxide.اتاق تمییز , فتوملک۔bakin

بررسی لیتوگرافی و اچینگ در طراحی نیمه هادی های با کیفیت بهتر authors

سیدجواد جوادی مقدم

عضو هیئت علمی دانشگاه پیام نور

علی اکبری مجد

دانشجوی کارشناسی ارشد شده الکترونیک دانشگاه پیام نور تهران - تهران شمال

مراجع و منابع این Paper:

لیست زیر مراجع و منابع استفاده شده در این Paper را نمایش می دهد. این مراجع به صورت کاملا ماشینی و بر اساس هوش مصنوعی استخراج شده اند و لذا ممکن است دارای اشکالاتی باشند که به مرور زمان دقت استخراج این محتوا افزایش می یابد. مراجعی که مقالات مربوط به آنها در سیویلیکا نمایه شده و پیدا شده اند، به خود Paper لینک شده اند :
W. kern and D.A Poutinen , "Cleaning Solations Based upon ...
W. kern, "Purifying Siand Sio, Surfaces with Hydrogen Peroxide, _ ...
w. R. Runyon and K. E.Bean, Semiconductor Integrated Circuit Processing ...
S.M. Sze, Ed. , VL S ITecnology, Mc Graw- Hill, ...
Richrd, C .Jeager , Introduction To Micro electronic Fabrication ...
نمایش کامل مراجع

مقاله فارسی "بررسی لیتوگرافی و اچینگ در طراحی نیمه هادی های با کیفیت بهتر" توسط سیدجواد جوادی مقدم، عضو هیئت علمی دانشگاه پیام نور؛ علی اکبری مجد، دانشجوی کارشناسی ارشد شده الکترونیک دانشگاه پیام نور تهران - تهران شمال نوشته شده و در سال 1395 پس از تایید کمیته علمی دومین کنفرانس بین المللی یافته های نوین پژوهشی در مهندسی برق و علوم کامپیوتر پذیرفته شده است. کلمات کلیدی استفاده شده در این مقاله لیتو گرافی. Etchingقتور زیست.Masksسیلیکون.WafeI.oxide.اتاق تمییز، فتوملک۔bakin هستند. این مقاله در تاریخ 5 بهمن 1395 توسط سیویلیکا نمایه سازی و منتشر شده است و تاکنون 1797 بار صفحه این مقاله مشاهده شده است. در چکیده این مقاله اشاره شده است که برای تولید مدار مجتمع از فیلم های باریک با مواد مختلف، به عنوان لایه های محافظ جهت افزودن و یا کشت اتم های ناخالصی و یا به عنوان عایق عیان مواد رسانا و سیلیکون زیر لایه استفاده می شود و ماسک ها شامل الگویی از پنجره هایی هستند که تحت فرایندی که فتولیتوگرافی خوانده می شود به روی سطح سیلیکون ... . برای دانلود فایل کامل مقاله بررسی لیتوگرافی و اچینگ در طراحی نیمه هادی های با کیفیت بهتر با 20 صفحه به فرمت PDF، میتوانید از طریق بخش "دانلود فایل کامل" اقدام نمایید.