بررسی خواص غیر خطی الکتریکی لایه نازک سیلیکان
Publish place: 3rd National Conference on Vacuum
Publish Year: 1386
Type: Conference paper
Language: Persian
View: 1,174
متن کامل این Paper منتشر نشده است و فقط به صورت چکیده یا چکیده مبسوط در پایگاه موجود می باشد.
توضیح: معمولا کلیه مقالاتی که کمتر از ۵ صفحه باشند در پایگاه سیویلیکا اصل Paper (فول تکست) محسوب نمی شوند و فقط کاربران عضو بدون کسر اعتبار می توانند فایل آنها را دانلود نمایند.
- Certificate
- I'm the author of the paper
Export:
Document National Code:
NCV03_025
Index date: 22 August 2008
بررسی خواص غیر خطی الکتریکی لایه نازک سیلیکان abstract
اندازه گیری مقاومت ویژه ویفرهای سیلیکان ( 111 ) نوع p,n به روش ون در پاو انجام شد. سپس به وسیله تبخیر اشعه الکترونی, یک لایه نازک از سیلیکان بر روی ویفر سیلیکان نشاندیم. با مقایسه نمودار ویفر سیلیکان با حالت لایه نشانی شده سیلیکان, مشاهده شد برای جریان های کمتر از 2 mA تفاوت آشکاری میان دو حالت وجود دارد که ناشی از لایه نازک سیلیکان می باشد.
بررسی خواص غیر خطی الکتریکی لایه نازک سیلیکان authors
نرگس صادق بیگی
گروه فیزیک دانشگاه الزهرا(س) ، ونک، تهران
مراجع و منابع این Paper:
لیست زیر مراجع و منابع استفاده شده در این Paper را نمایش می دهد. این مراجع به صورت کاملا ماشینی و بر اساس هوش مصنوعی استخراج شده اند و لذا ممکن است دارای اشکالاتی باشند که به مرور زمان دقت استخراج این محتوا افزایش می یابد. مراجعی که مقالات مربوط به آنها در سیویلیکا نمایه شده و پیدا شده اند، به خود Paper لینک شده اند :