فتورزیست های مبتنی برتک لایه های خود آرا جهت انجام لیتوگرافی در ابعاد نانو
Publish Year: 1394
نوع سند: مقاله کنفرانسی
زبان: Persian
View: 753
This Paper With 7 Page And PDF Format Ready To Download
- Certificate
- من نویسنده این مقاله هستم
استخراج به نرم افزارهای پژوهشی:
شناسه ملی سند علمی:
NCNTA04_058
تاریخ نمایه سازی: 5 اردیبهشت 1396
Abstract:
با توجه به گسترش روز افزون تکنولوژی ادوات نانوالکترونیکی و سیستمهای میکرونانو الکترومکانیکی و به این دلیل که فرآیند فتولیتوگرافی یکی از مراحل اساسی ساخت (لایه نشانی، لیتوگرافی، لایه برداری) این ادوات و تعیین کننده کوچکترین اجزاء قابل ساخت است که تلاشهای گستردهای در این زمینه انجام گرفته و میگیرد. محدودیت های روشهای متداول محققان را بر آن داشت تا به دنبال روشهای جایگزین مناسب برای این منظور باشند. مزیتهای منحصربهفرد تک لایههای خودآرا و همچنین ترکیب لیتوگرافی و تک لایههای خودآرا، باعث شده است تا لیتوگرافی به کمک این مولکولها جایگزین مناسبی به جای روشهای لیتوگرافی متداول باشد. به این صورت که با بهرهگیری از تک لایههای خود آرا برای لیتوگرافی میتوان معایب تکنیکهای لایه نشانی چرخشی و لایه نشانی در سطوح ناصاف را مرتفع نماید و همچنین ایجاد پیوند کوالانسی بین تکلایههای خود آرا و زیرلایه باعث پایداری بیشتر این مولکولها شود. در این مقاله اشارهای کلی به مزیت مواد فتورزیست مبتنی بر تک لایههای خود آرا و انواع آن و انواع روشهای سنتز تک لایههای عاملدار معرفی شده است. حال به کمک روش گفته شده فرآیند ریز ساخت سیستمها در ابعاد نانو ممکن خواهد بود که زمینه تحقیقاتی بسیار گستردهای در مورد سنتز مواد فتورزیست تک لایههای خود آرا وجود آورده است.
Keywords:
Authors
پویا هاشم زاده
دانشجوی ترم اول کارشناسی ارشد مهندسی برق الکترونیک گرایش سیستمهای میکرونانو الکترومکانیک، تبریز، بلور 29 بهمن، دانشگاه تبریز، دانشکده ی مهندسی برق و کامپیوتر
مراجع و منابع این Paper:
لیست زیر مراجع و منابع استفاده شده در این Paper را نمایش می دهد. این مراجع به صورت کاملا ماشینی و بر اساس هوش مصنوعی استخراج شده اند و لذا ممکن است دارای اشکالاتی باشند که به مرور زمان دقت استخراج این محتوا افزایش می یابد. مراجعی که مقالات مربوط به آنها در سیویلیکا نمایه شده و پیدا شده اند، به خود Paper لینک شده اند :