سیویلیکا را در شبکه های اجتماعی دنبال نمایید.

بررسی انرژی آزاد فلز مس پوشش داده شده به وسیله شیف باز در محیط اسیدی

Publish Year: 1395
Type: Conference paper
Language: Persian
View: 456

This Paper With 9 Page And PDF Format Ready To Download

Export:

Link to this Paper:

Document National Code:

THCONF01_190

Index date: 9 July 2017

بررسی انرژی آزاد فلز مس پوشش داده شده به وسیله شیف باز در محیط اسیدی abstract

در این تحقیق، از شیف باز سالپن N-N بیس سالیسیدن -1 و 3- دی آمینو پروپان به صورت لایههای نازک خودمجموعه ساز SAM به منظور حفاظت در برابر خوردگی مس در محیط اسید نیتریک یک مولار استفاده شده است. فیلم SAM از غوطه ور کردن نمونه مس در محلولهای ppm 500 و ppm 1000 شیف باز در الکل تهیه شد و مقاومت در برابر خوردگی آن در محلول اسید نیتریک یک مولار در محلول هوادهی شده مورد بررسی قرار گرفت. نتایج کاهش وزن نشان داد که این پوشش لایه نازک حاصل از محلول ppm 1000 شیف باز در دمای 50 درجه سانتی گراد در محیط اسید نیتریک یک مولار دارای حفاظت در برابر خوردگی بیش از 94 درصد میباشد. همچنین نتایج آزمایشگاهی ایزوترم لانگمویر نشان داد عملکرد پوششهای فوق از نوع مختلط میباشد. با استفاده از تصاویر SEM عملکرد سطحی شیف باز بر روی سطح نمونه مس بررسی شد. این تکنیک تشکیل فیلم لایه نازک شیف باز را نشان میدهد.

بررسی انرژی آزاد فلز مس پوشش داده شده به وسیله شیف باز در محیط اسیدی Keywords:

خوردگی , لایه های نازک خود مجموعه ساز , پلاریزاسیون , امپدانس الکتروشیمیایی

بررسی انرژی آزاد فلز مس پوشش داده شده به وسیله شیف باز در محیط اسیدی authors

امید حیدرزاده

مرکز تحقیقات مواد پیشرفته، دانشکده مهندسی مواد، واحد نجف آباد، دانشگاه آزاد اسلامی، نجف آباد، ایران

مجتبی نصر اصفهانی

مرکز تحقیقات مواد پیشرفته، دانشکده مهندسی مواد، واحد نجف آباد، دانشگاه آزاد اسلامی، نجف آباد، ایران

احسان صایب نوری

مرکز تحقیقات مواد پیشرفته، دانشکده مهندسی مواد، واحد نجف آباد، دانشگاه آزاد اسلامی، نجف آباد، ایران

مقاله فارسی "بررسی انرژی آزاد فلز مس پوشش داده شده به وسیله شیف باز در محیط اسیدی" توسط امید حیدرزاده، مرکز تحقیقات مواد پیشرفته، دانشکده مهندسی مواد، واحد نجف آباد، دانشگاه آزاد اسلامی، نجف آباد، ایران؛ مجتبی نصر اصفهانی، مرکز تحقیقات مواد پیشرفته، دانشکده مهندسی مواد، واحد نجف آباد، دانشگاه آزاد اسلامی، نجف آباد، ایران؛ احسان صایب نوری، مرکز تحقیقات مواد پیشرفته، دانشکده مهندسی مواد، واحد نجف آباد، دانشگاه آزاد اسلامی، نجف آباد، ایران نوشته شده و در سال 1395 پس از تایید کمیته علمی اولین همایش بین المللی افق های نوین در علوم پایه و فنی و مهندسی پذیرفته شده است. کلمات کلیدی استفاده شده در این مقاله خوردگی، لایه های نازک خود مجموعه ساز، پلاریزاسیون، امپدانس الکتروشیمیایی هستند. این مقاله در تاریخ 18 تیر 1396 توسط سیویلیکا نمایه سازی و منتشر شده است و تاکنون 456 بار صفحه این مقاله مشاهده شده است. در چکیده این مقاله اشاره شده است که در این تحقیق، از شیف باز سالپن N-N بیس سالیسیدن -1 و 3- دی آمینو پروپان به صورت لایههای نازک خودمجموعه ساز SAM به منظور حفاظت در برابر خوردگی مس در محیط اسید نیتریک یک مولار استفاده شده است. فیلم SAM از غوطه ور کردن نمونه مس در محلولهای ppm 500 و ppm 1000 شیف باز در الکل تهیه شد ... . برای دانلود فایل کامل مقاله بررسی انرژی آزاد فلز مس پوشش داده شده به وسیله شیف باز در محیط اسیدی با 9 صفحه به فرمت PDF، میتوانید از طریق بخش "دانلود فایل کامل" اقدام نمایید.