توسعه یک مدل دو هدفه برای مسیله حداکثر پوشش با محدودیت پارامترهای صف
Publish place: Industrial Management Studies، Vol: 8، Issue: 18
Publish Year: 1389
نوع سند: مقاله ژورنالی
زبان: Persian
View: 467
This Paper With 13 Page And PDF Format Ready To Download
- Certificate
- من نویسنده این مقاله هستم
این Paper در بخشهای موضوعی زیر دسته بندی شده است:
استخراج به نرم افزارهای پژوهشی:
شناسه ملی سند علمی:
JR_JIMS-8-18_001
تاریخ نمایه سازی: 1 اردیبهشت 1397
Abstract:
مسیله مکان یابی حداکثر پوشش (MCLP) سعی در حداکثر نمودن پوشش جمعیتی می کند که در یک حداکثر فاصله با زمان مشخص از یک تجهیز قرار دارند. توسعه های بسیاری جهت بهبود کاربردهای این مسیله ارایه شده است که یکی از آنها ترکیب این مسیله با مدلهای صف است. به عنوان مثال مکان یابی محل تعدادی خدمت دهنده با هدف حداکثر نمودن پوشش مشتریان و محدودیت در طول یا زمان انتظار مشتریان در صف. در این مقاله مدل ارایه شده توسط کورآ و لورنا [3] که به صورت یک مسیله حداکثر پوشش با محدودیت شاخصهای صف است، توسعه داده می شود. بگونه ای که علاوه بر تابع هدف حداکثر پوشش، هدف حداقل نمودن فواصل خدمت دهنده ها تا مشتریان نیز در نظر گرفته می شود. بدین منظور بر خلاف مدل مقاله اصلی محدودیت خاصی در تخصیص مشتریان به گره های خدمت دهی ایجاد نگردیده و این خود مدل خواهد بود که نحوه تخصیص را مشخص می کند. مدل توسعه داده شده توسط الگوریتم ژنتیک و نرم افزار CPLEX حل و نتایج حاصل نشان دهنده عملکرد مطلوب الگوریتم توسعه داده شده می باشد
Keywords:
Authors
مهدی سیف برقی
استادیار دانشگاه الزهرا، دانشکده فنی و مهندسی
راضیه فرقانی
دانشجوی کارشناسی ارشد مهندس صنایع دانشگاه الزهرا، دانشکده فنی و مهندسی
ظریفه راثی
دانشجوی کارشناسی ارشد مهندس صنایع دانشگاه الزهرا، دانشکده فنی و مهندسی