بررسی اثر پارامترهای رسوبدهی الکتروشیمیایی پالسی بر درصد ترکیب و ضخامت لایه آلیاژی طلا
Publish place: First International Congress of Chemistry and Nanochemistry from Research to Technology
Publish Year: 1397
Type: Conference paper
Language: Persian
View: 436
This Paper With 17 Page And PDF Format Ready To Download
- Certificate
- I'm the author of the paper
Export:
Document National Code:
ICCNRT01_069
Index date: 20 January 2019
بررسی اثر پارامترهای رسوبدهی الکتروشیمیایی پالسی بر درصد ترکیب و ضخامت لایه آلیاژی طلا abstract
نتایج کار حاضر، نشان دهنده بهینه سازی پارامترهای موثر در تثبیت درصد طلا و ضخامت لایه آلیاژ Au-Cu بر روی الکترود نقره خالص است. پارامترهای ویژه در این روش شامل میانگین چگالی جریان، درصد چرخه کاری، دمای حمام،غلظت یونهای طلا و سیانید در الکترولیت، pH، تلاطم محلول و اثر افزودنی ترکننده به منظور رسیدن به درصد طلا با عیار استاندارد Au 75 wt.%) 18K و (Cu 25 wt.%، با روش یک عامل در یک زمان بهطور موثری بهینهسازی شدند. تحت شرایط بهینه مذکور و تثبیت مقدار درصد طلا در آلیاژ، با تغییرات درصد چرخه کاری (از 20 الی90 درصد) ضخامت لایه ها نیز بهینه سازی شدند. ضخامت مقاطع عرضی نمونه ها و درصد طلا در لایه های ترسیب شده به وسیله SEM-EDX، XRF و ICP-OES مورد بررسی قرار گرفت. شرایط بهینه از نقطه نظر مقدار Au همرسوب شده با Cu و ضخامت لایه های ایجاد شده( تعیین شد. نتایج نشان داد که لایه آلیاژی Au-Cu شکل گرفته در چرخه کاری%30 و چگالی جریان متوسط 0/6mA/CM2( به عنوان لایه ایجاد شده در شرایط بهینه دارای 74/4wt.% طلا و ضخامت 202 بود.
بررسی اثر پارامترهای رسوبدهی الکتروشیمیایی پالسی بر درصد ترکیب و ضخامت لایه آلیاژی طلا Keywords:
رسوبدهی الکتروشیمیایی , چگالی جریان متوسط , روش یک عامل در یک زمان , آلیاژ طلا-مس , درصد چرخه کاری , ضخامت لایه آلیاژی , درصد ترکیب آلیاژ
بررسی اثر پارامترهای رسوبدهی الکتروشیمیایی پالسی بر درصد ترکیب و ضخامت لایه آلیاژی طلا authors
محمدرضا سویزی
دانشگاه صنعتی مالک اشتر، مجتمع دانشگاهی شیمی و مهندسی شیمی
مرتضی خسروی
دانشگاه آزاد اسلامی واحد تهران شمال، دانشکده شیمی
حمید بابایی
دانشگاه آزاد اسلامی واحد تهران شمال، دانشکده شیمی