اندازه گیری پویش آزاد میانگین الکترون در لایه های نازک Ni و چند لایه ایهای نازک Ni / Cu از طریق مطالعه بستگی مقاومت الکتریکی به ضخامت لایه ها
Publish place: The Physics Society Of Iran، Vol: 7، Issue: 3
Publish Year: 1386
Type: Journal paper
Language: Persian
View: 765
This Paper With 9 Page And PDF Format Ready To Download
- Certificate
- I'm the author of the paper
Export:
Document National Code:
JR_PSI-7-3_004
Index date: 20 January 2019
اندازه گیری پویش آزاد میانگین الکترون در لایه های نازک Ni و چند لایه ایهای نازک Ni / Cu از طریق مطالعه بستگی مقاومت الکتریکی به ضخامت لایه ها abstract
در این کار ضمن ارایه یک مدل ریاضی برای محاسبه مقاومت ویژه لایه های نازک، تغییرات مقاومت الکتریکی ویژه بر حسب ضخامت برای تک لایه ایهای نازک Ni و چند لایه ایهای نازک Ni / Cu مورد مطالعه قرار گرفت. لایه ها به روش الکتروانباشت از یک محلول الکترولیت شامل یونهای Ni و Cu رشد یافتند. ضخامت لایه ها از 200 تا 2000 نانومتر تغییر داده شد. نقش پراش پرتو ایکس (XRD) تعدادی از لایه های نازک Ni / Cu بیانگر ساختار چند لایه ای و پیروی آنها از ساختار ترجیحی زیر لایه خود است. از مطالعات اندازه گیری مقاومت الکتریکی ویژه، پویش آزاد میانگین برای لایه های نازک Ni و Ni / Cu محاسبه گردید.
اندازه گیری پویش آزاد میانگین الکترون در لایه های نازک Ni و چند لایه ایهای نازک Ni / Cu از طریق مطالعه بستگی مقاومت الکتریکی به ضخامت لایه ها Keywords:
اندازه گیری پویش آزاد میانگین الکترون در لایه های نازک Ni و چند لایه ایهای نازک Ni / Cu از طریق مطالعه بستگی مقاومت الکتریکی به ضخامت لایه ها authors
غلامرضا نبیونی
گروه فیزیک دانشگاه اراک