سیویلیکا را در شبکه های اجتماعی دنبال نمایید.

بررسی عوامل موثر بر مشخصه های الکتریکی ترانزیستور تونلی کانال n با پیوند نامتجانس InAs-Si به منظور بهینه سازی عملکرد افزاره در ابعاد نانو

Publish Year: 1398
Type: Conference paper
Language: Persian
View: 648

This Paper With 11 Page And PDF and WORD Format Ready To Download

Export:

Link to this Paper:

Document National Code:

NCNTA07_011

Index date: 20 October 2019

بررسی عوامل موثر بر مشخصه های الکتریکی ترانزیستور تونلی کانال n با پیوند نامتجانس InAs-Si به منظور بهینه سازی عملکرد افزاره در ابعاد نانو abstract

در این مقاله ترانزیستور اثر میدانی تونلی متجانس سیلیسیومی (Si) و نامتجانس InAs-Si نوع n مورد مطالعه و شبیه سازی قرار گرفته است. به منظور طراحی یک افزاره بهینه، اثر پارامترهای ساختاری و فیزیکی بر مشخصه های الکتریکی افزاره تونلی متجانس و نامتجانس به طور کامل مورد بررسی قرار گرفته است. مطابق نتایج بدست آمده، افزایش تراکم ناخالصی سورس احتمال تونل زنی را افزایش داده و موجب بهبود جریان حالت روشن می گردد. همچنین با کاهش ضخامت بدنه و ضخامت اکسید گیت به نسبت جریان حالت روشن به خاموش (10)10 و سوئینگ زیر آستانه 7mV/dec دست یافتیم. در ادامه، تحلیل آماری داده ها جهت مشخص نمودن میزان تغییرات جریان حالت روشن، جریان حالت خاموش و سوئینگ زیر آستانه نسبت به پارامترهای ساختاری افزاره انجام شده است. تابع کار گیت، آلایش سورس و ضخامت عایق گیت از پارامترهای تاثیر گذار بر مشخصه الکتریکی ترانزیستور تونلی نامتجانس می باشند. از طرفی مشخصه های الکتریکی افزاره کمترین حساسیت را به طول کانال دارند که این امر بکارگیری افزاره تونلی را در ابعاد نانو تسهیل می کند.

بررسی عوامل موثر بر مشخصه های الکتریکی ترانزیستور تونلی کانال n با پیوند نامتجانس InAs-Si به منظور بهینه سازی عملکرد افزاره در ابعاد نانو Keywords:

بررسی عوامل موثر بر مشخصه های الکتریکی ترانزیستور تونلی کانال n با پیوند نامتجانس InAs-Si به منظور بهینه سازی عملکرد افزاره در ابعاد نانو authors

مریم خانی

گروه الکترونیک، دانشکده مهندسی برق، دانشگاه آزاد اسلامی واحد یادگار امام خمینی (ره) شهرری، تهران، ایران

زهرا آهنگری

گروه الکترونیک، دانشکده مهندسی برق، دانشگاه آزاد اسلامی واحد یادگار امام خمینی (ره) شهرری، تهران، ایران

حامد نعمتیان

گروه الکترونیک، دانشکده مهندسی برق، دانشگاه آزاد اسلامی واحد یادگار امام (ره) شهرری، تهران، ایران

مقاله فارسی "بررسی عوامل موثر بر مشخصه های الکتریکی ترانزیستور تونلی کانال n با پیوند نامتجانس InAs-Si به منظور بهینه سازی عملکرد افزاره در ابعاد نانو" توسط مریم خانی، گروه الکترونیک، دانشکده مهندسی برق، دانشگاه آزاد اسلامی واحد یادگار امام خمینی (ره) شهرری، تهران، ایران؛ زهرا آهنگری، گروه الکترونیک، دانشکده مهندسی برق، دانشگاه آزاد اسلامی واحد یادگار امام خمینی (ره) شهرری، تهران، ایران؛ حامد نعمتیان، گروه الکترونیک، دانشکده مهندسی برق، دانشگاه آزاد اسلامی واحد یادگار امام (ره) شهرری، تهران، ایران نوشته شده و در سال 1398 پس از تایید کمیته علمی هفتمین همایش ملی فناوری نانو از تئوری تا کاربرد پذیرفته شده است. کلمات کلیدی استفاده شده در این مقاله پیوند نامتجانس، ترانزیستور تونلی، تونل زنی نوار به نوار، سوئینگ زیر آستانه هستند. این مقاله در تاریخ 28 مهر 1398 توسط سیویلیکا نمایه سازی و منتشر شده است و تاکنون 648 بار صفحه این مقاله مشاهده شده است. در چکیده این مقاله اشاره شده است که در این مقاله ترانزیستور اثر میدانی تونلی متجانس سیلیسیومی (Si) و نامتجانس InAs-Si نوع n مورد مطالعه و شبیه سازی قرار گرفته است. به منظور طراحی یک افزاره بهینه، اثر پارامترهای ساختاری و فیزیکی بر مشخصه های الکتریکی افزاره تونلی متجانس و نامتجانس به طور کامل مورد بررسی قرار گرفته است. مطابق نتایج بدست آمده، افزایش تراکم ناخالصی سورس احتمال ... . برای دانلود فایل کامل مقاله بررسی عوامل موثر بر مشخصه های الکتریکی ترانزیستور تونلی کانال n با پیوند نامتجانس InAs-Si به منظور بهینه سازی عملکرد افزاره در ابعاد نانو با 11 صفحه به فرمت PDF، میتوانید از طریق بخش "دانلود فایل کامل" اقدام نمایید.