سیویلیکا را در شبکه های اجتماعی دنبال نمایید.

تاثیر تابع پتانسیل بر شبیه سازی دینامیک مولکولی فرآیند ماشین کاری نانومتری سیلیکون تک کریستال

Publish Year: 1398
Type: Journal paper
Language: Persian
View: 517

This Paper With 16 Page And PDF Format Ready To Download

Export:

Link to this Paper:

Document National Code:

JR_JACSM-30-2_002

Index date: 25 February 2020

تاثیر تابع پتانسیل بر شبیه سازی دینامیک مولکولی فرآیند ماشین کاری نانومتری سیلیکون تک کریستال abstract

فرآیند ماشین کاری نانومتری روشی پیشرفته جهت ساخت قطعات ترد سیلیکونی با صافی سطح نانومتری میباشد. با استفاده از شبیه سازی دینامیک مولکولی این فرآیند میتوان به جزییات ارزشمندی از مکانیزم ماشین کاری دست یافت. انتخاب تابع پتانسیل مناسب، اصلیترین پارامتر در تعیین نتایج یک شبیه سازی دینامیک مولکولی میباشد. در این مقاله از ترکیب سه تابع پتانسیل مورس، ترسوف و استیلینگر-وبر جهت تعریف اندرکنشهای بین ذرهای استفاده شده است. مکانیزم ماشینکاری، دمای قطعه کار، نیروهای ماشینکاری، انرژی سیستم و آسیب های زیر سطحی قطعه کار مواردی بودند که جهت مقایسه این توابع پتانسیل مورد مطالعه قرار گرفتند. نتایج نشان داد که استفاده از ترکیب تابع پتانسیل مورس و ترسوف، سبب تغییر مکانیزم ماشین کاری به حالت ترد گردیده و انرژی سیستم را تا حد % 7 /3 کاهش میدهد. همچنین مشخص گردید که اندرکنش بین اتمهای ابزار و قطعه کار تاثیر بیشتری در تعیین دمای قطعه کار و نیروهای ماشین کاری دارد.

تاثیر تابع پتانسیل بر شبیه سازی دینامیک مولکولی فرآیند ماشین کاری نانومتری سیلیکون تک کریستال Keywords:

تاثیر تابع پتانسیل بر شبیه سازی دینامیک مولکولی فرآیند ماشین کاری نانومتری سیلیکون تک کریستال authors

سیدنادر عاملی کلخوران

دانشجوی دکتری، گروه ساخت و تولید، دانشگاه صنعتی خواجه نصیرالدین طوسی، تهران، ایران.

مهرداد وحدتی

دانشیار، گروه ساخت و تولید، دانشگاه صنعتی خواجه نصیرالدین طوسی، تهران، ایران.