بررسی اثر ضخامت بر مقاومت الکتریکی لایه های لایه نشانی شده با دو گاز استیلن و متان به روش رسوب گذاری بخار شیمیایی پلاسمایی
Publish place: The 20th National Conference on Surface Engineering and the First Conference on Damage Analysis and Life Estimation
Publish Year: 1398
Type: Conference paper
Language: Persian
View: 1,226
This Paper With 7 Page And PDF Format Ready To Download
- Certificate
- I'm the author of the paper
Export:
Document National Code:
ISSE20_044
Index date: 11 May 2020
بررسی اثر ضخامت بر مقاومت الکتریکی لایه های لایه نشانی شده با دو گاز استیلن و متان به روش رسوب گذاری بخار شیمیایی پلاسمایی abstract
لایه های نازک کربنی بر روی زیرلایه ی سیلیکون که بر روی آن یک لایه نازک دی الکتریک از جنس سیلیکون دی اکسید پوشش دهی شده است، به روش رسوب گذاری بخار شیمیایی پلاسما لایه نشانی شده اند. این لایه ها با استفاده از گاز استیلن و متان در توان 500 وات و در مدت زمان های مختلفی تولید شدند. پس از اندازه گیری ضخامت لایه ها، اثر آن بر روی مقاومت الکتریکی لایه های تولید شدهد برای هر دو مورد گاز متان و استیلن مورد بررسی قرار گرفته است. ضخامت لایه های لایه نشانی شده با استفاده از دستگاه بیضی سنجی اندازه گیری شده است. همچنین مقاومت الکتریکی لایه های تولید شده با استفاده از دستگاه پروب چهار نقطه ای به دست آمده است. نتایج نشان می دهد با افزایش لایه نشانی که از این طریق لایه های با ضخامت های بیشتری تولید شده است، مقاومت لایه ها کاهش یافته است.
بررسی اثر ضخامت بر مقاومت الکتریکی لایه های لایه نشانی شده با دو گاز استیلن و متان به روش رسوب گذاری بخار شیمیایی پلاسمایی Keywords:
رسوب گذاری بخار شیمیایی پلاسما , مقاومت سطحی , پروب چهار نقطه ای , لایه نازک کربنی , زمان لایه نشانی , گاز متان , گاز استیلن
بررسی اثر ضخامت بر مقاومت الکتریکی لایه های لایه نشانی شده با دو گاز استیلن و متان به روش رسوب گذاری بخار شیمیایی پلاسمایی authors
نسبیه صابری پیروز
پژوهشکده لیزر پلاسما، دانشگاه شهید بهشتی (کارشناسی ارشد)
مرضیه عباسی فیروزجاه
دانشکده مهندسی، دانشگاه فناوری های نوین سبزوار، سبزوار (استادیار)
سید ایمان حسینی
دانشکده فیزیک، دانشگاه صنعتی شاهرود (استادیار)
بابک شکری
دانشکده فیزیک، دانشگاه شهید بهشتی (استاد)