تاثیر فشار اکسیژن و دما بر خواصاپتیکی و مورفولوژی لایه های نازک اکسید تنگستن به روشلایه نشانی لیزر پالسی
Publish place: 2nd National Conference on Optic and Laser Engineering
Publish Year: 1390
Type: Conference paper
Language: Persian
View: 1,068
This Paper With 5 Page And PDF Format Ready To Download
- Certificate
- I'm the author of the paper
Export:
Document National Code:
NCOLE02_021
Index date: 15 March 2011
تاثیر فشار اکسیژن و دما بر خواصاپتیکی و مورفولوژی لایه های نازک اکسید تنگستن به روشلایه نشانی لیزر پالسی abstract
در این مقاله، لایههای نازک اکسید تنگستن بر روی شیشه و سیلیکون به روش لیزر پالسی در محیطهای خلا و فشار جزیی اکسیژنmTorr)100 و در دماهای زیرلایه300-25 درجه سانتیگراد لایه نشانی شدهاند. خواص اپتیکی و مورفولوژی نمونه ها با اسپکتروفوتومتر نوری در محدودهnm800-200 و میکروسکوپ نیروی اتمی مطالعه شد. نتایج نشان داد عبور اپتیکی در لایهنشانی در فشار جزیی اکسیژن بیشتر از محیط خلا است در حالیکه نمونههای محیط خلا انعکاس بیشتری دارند. همچنین در محیط خلا سطوح هموارتری به دست میآید. به طور کلی با افزایشدمای زیرلایه یکنواختی لایه و خواصاپتیکی میتوانند بهبود یابند
تاثیر فشار اکسیژن و دما بر خواصاپتیکی و مورفولوژی لایه های نازک اکسید تنگستن به روشلایه نشانی لیزر پالسی Keywords:
تاثیر فشار اکسیژن و دما بر خواصاپتیکی و مورفولوژی لایه های نازک اکسید تنگستن به روشلایه نشانی لیزر پالسی authors
مهدی رنجبر
اصفهان، دانشگاه صنعتی اصفهان، دانشکده فیزیک،
هادی سلامتی
اصفهان، دانشگاه صنعتی اصفهان، دانشکده فیزیک،
زهرا خواجه میری
اصفهان، دانشگاه صنعتی اصفهان، دانشکده فیزیک،
مراجع و منابع این Paper:
لیست زیر مراجع و منابع استفاده شده در این Paper را نمایش می دهد. این مراجع به صورت کاملا ماشینی و بر اساس هوش مصنوعی استخراج شده اند و لذا ممکن است دارای اشکالاتی باشند که به مرور زمان دقت استخراج این محتوا افزایش می یابد. مراجعی که مقالات مربوط به آنها در سیویلیکا نمایه شده و پیدا شده اند، به خود Paper لینک شده اند :