بررسی تاثیر جریان پالسی بر کاهش ضخامت لایه های نازک نانومتری مس/نیکل تولید شده به‌‌وسیله فرایند آبکاری الکتریکی
Publish place: 02nd joint conference of Iranian Metallurgical Engineers Society and Iranian Foundry men
Publish Year: 1387
نوع سند: مقاله کنفرانسی
زبان: Persian
View: 2,310
This Paper With 9 Page And PDF Format Ready To Download
- Certificate
- من نویسنده این مقاله هستم
استخراج به نرم افزارهای پژوهشی:
شناسه ملی سند علمی:
IMES02_341
تاریخ نمایه سازی: 20 مرداد 1391
Abstract:
پوشش های چند لایه فلزی در سالهای اخیر بطور چشمگیری مورد توجه قرار گرفتهاند که این به دلیل خواص الکتریکی، مغناطیسی و مکانیکی مطلوب آنهاست. در این تحقیق آبکاری الکتریکی لایه های نازک نانومتری مس/ نیکل مورد بررسی قرار گرفت. لایه های نازک نانومتری که در آنها یک لایه مغناطیسی باشد و لایه مجاور غیر مغناطیسی باشد دارای خاصیت ابررسانائی مغناطیسی (GMR) هستند و در ساخت هدهای کامپیوتر از آنها استفاده می شود. در این پژوهش برای آبکاری لایه های نیکل از حمام واتس و برای آبکاری لایه های مس از حمام اسیدی سولفات مس استفاده شد. با بهینه سازی شدت جریان و زمان آبکاری که از پارامترهای مهم این فرآیند می باشند لایه های نازک نانومتری نیکل (50 نانومتر) و مس (100 نانومتر) ساخته شد و با استفاده از میکروسکوپ الکترونی عبوری (TEM) ساختار آنها مورد بررسی قرار گرفت. نتایج حاصل از آبکاری با جریان پالسی حاکی از این بود که با اعمال یک جریان پالسی مطلوب می توان زمان بحرانی پوشش دهی و در نتیجه ضخامت لایه ها را تا کاهش داد.
Keywords:
Authors
احمد ایران نژاد
دانشجوی دکتری بخش مهندسی مواد دانشگاه شیراز
محمدابراهیم بحرالعلوم
دانشیار بخش مهندسی مواد دانشگاه شیراز
کمال جانقربان
استاد بخش مهندسی مواد دانشگاه شیراز
مراجع و منابع این Paper:
لیست زیر مراجع و منابع استفاده شده در این Paper را نمایش می دهد. این مراجع به صورت کاملا ماشینی و بر اساس هوش مصنوعی استخراج شده اند و لذا ممکن است دارای اشکالاتی باشند که به مرور زمان دقت استخراج این محتوا افزایش می یابد. مراجعی که مقالات مربوط به آنها در سیویلیکا نمایه شده و پیدا شده اند، به خود Paper لینک شده اند :