Fabrication of Diffraction Gratings on Aluminum Thin Film Specimens using Focused Ion Beam (FIB)
Publish place: 2nd International Congress on Nanoscience and Nanotechnology
Publish Year: 1387
نوع سند: مقاله کنفرانسی
زبان: English
View: 672
متن کامل این Paper منتشر نشده است و فقط به صورت چکیده یا چکیده مبسوط در پایگاه موجود می باشد.
توضیح: معمولا کلیه مقالاتی که کمتر از ۵ صفحه باشند در پایگاه سیویلیکا اصل Paper (فول تکست) محسوب نمی شوند و فقط کاربران عضو بدون کسر اعتبار می توانند فایل آنها را دریافت نمایند.
- Certificate
- من نویسنده این مقاله هستم
استخراج به نرم افزارهای پژوهشی:
شناسه ملی سند علمی:
ICNN02_041
تاریخ نمایه سازی: 27 شهریور 1391
Abstract:
Different techniques have been used to fabricate diffraction gratings on optical waveguides, switches, and other optical elements. In this research, the Ga+ Focused Ion Beam (FIB) instrument was used to directly write the specimen gratings on the surface of aluminum thin film specimens. The process parameters were optimized and were used to fabricate diffraction gratings.When the Ga ion beam strikes the sample, various particles and radiations are emitted from the sample through the interaction cascade. During this process, there are a number of unwanted phenomena that happen, leading to damage or anomalies in the sample. These damages are in the form of Ga implantation, anomalous Ga phase formation, material redeposition and amorphization, and beam induced grain growth. Since the aluminum films were later used to probe their mechanical properties, the microstructural damage due to the FIB milling has also been studied and the results are presented
Authors
مراجع و منابع این Paper:
لیست زیر مراجع و منابع استفاده شده در این Paper را نمایش می دهد. این مراجع به صورت کاملا ماشینی و بر اساس هوش مصنوعی استخراج شده اند و لذا ممکن است دارای اشکالاتی باشند که به مرور زمان دقت استخراج این محتوا افزایش می یابد. مراجعی که مقالات مربوط به آنها در سیویلیکا نمایه شده و پیدا شده اند، به خود Paper لینک شده اند :