بررسی اثر دمای بازپخت در نانوساختار ۲SnO-۲TiO ساخته شده به روش باریکه الکترونی بر روی زیر لایه های شیشه و آلومینیوم/ شیشه

لایه های نانوساختار ۲ SnO -۲ TiO به روش باریکه الکترونی روی زیرلایه هایی از جنس شیشه و آلومینیوم/شیشه لایه نشانی شدند. خلا موردنیاز در فرآیند لایه نشانی ۵ - ۱۰ × ۵ / ۱ تور در نظرگرفته شد، سپس لایه ها تحت عملیات بازپخت در دماهای ۴۵۰ ، ۵۰۰ و ۵۵۰ درجه سانتی گراد قرار گرفتند. ساختار بلوری و مورفولوژی لایه ها توسط آنالیزهای XRD و SEM بررسی گردید. خواص الکتریکی ( I-V ) و اپتیکی لایه ها نیز توسط سیستم نگهدارنده دو سوزنی و طیف سنج UV/Vis/IR مطالعه شد. نتایج نشان داد که تحت دمای بازپخت ۵۵۰ درجه سانتی گراد لایه ها بلورینگی بهتری داشتند. ضخامت و ابعاد دانه در هر دو نمونه به ترتیب حدود ۳۵ و ۴۸ نانومتر گزارش شد. رسانش الکتریکی در نمونه هایی با زیرلایه آلومینیوم/شیشه تحت بازپخت ۵۵۰ درجه سانتی گراد نسبت به دیگر لایه ها بهتر بود. گاف انرژی نیز با افزایش دما از ۴.۰۵ به ۴.۰۳ الکترون ولت برای حالت مستقیم کاهش یافت.

Keywords:

لایه نازک , باریکه الکترونی , زیر لایه , فرآیند بازپخت