سلولهای فوتوولتائیک نانوپلاسمونیکی
Publish place: First Iranian Conference on Nano Electronics
Publish Year: 1391
Type: Conference paper
Language: Persian
View: 788
This Paper With 7 Page And PDF Format Ready To Download
- Certificate
- I'm the author of the paper
Export:
Document National Code:
ICNE01_150
Index date: 30 April 2013
سلولهای فوتوولتائیک نانوپلاسمونیکی abstract
در این مقاله جذب انرژی درون سلولهای فوتوولتائیک را به کمک روشFDTDمحاسبه میکنیم. با مقایسه میزان بازتاب و جذب درون سلول یک بار با به کارگیری پوشش ضدبازتاب از جنس نیترید سیلیکون و یک بار با آرایهایی از نانومیلههای متناوب از جنسنقره نشان میدهیم که جذب درون سلول با کارگیری نانومیلهها نسبت به هنگامی که لایهی ضدبازتاب را بر روی سطح سلول قرار میدهیم بیشتر افزایش مییابد و ارتفاع نمودارمیزان جذب در این حالت بیشتر است. با مقایسه نمودار بازتاب در هر دو حالت در می- یابیم که بازتاب در حالتی که نانومیلهها به سطح سلول اضافه میشوند، در یک محدودهوسیعتری از طول موج کاهش مییابد و کاهش بازتاب افزایش میزان جذب را بههمراه دارد. با تنظیم دقیق دوره تناوب،ارتفاع و ضخامت نانومیلهها میتوان میزان بازتاب در محدودهی فعالیت سلول خورشیدی را به حداقل رساند و بهرهی سلول را به میزان قابل توجهی افزایش داد
سلولهای فوتوولتائیک نانوپلاسمونیکی Keywords:
سلولهای فوتوولتائیک نانوپلاسمونیکی authors
آرزو فیروزی
گروه فیزیک، دانشگاه خلیج فارس، بوشهر
مراجع و منابع این Paper:
لیست زیر مراجع و منابع استفاده شده در این Paper را نمایش می دهد. این مراجع به صورت کاملا ماشینی و بر اساس هوش مصنوعی استخراج شده اند و لذا ممکن است دارای اشکالاتی باشند که به مرور زمان دقت استخراج این محتوا افزایش می یابد. مراجعی که مقالات مربوط به آنها در سیویلیکا نمایه شده و پیدا شده اند، به خود Paper لینک شده اند :