تخریب فتوکاتالیستی تتراسایکلین با استفاده از نانوذرات روی اکسید قرار گرفته در ماتریس زئولیت Y

در این تحقیق فتوکاتالیست نانوساختار ZnO/Zeolite Y با استفاده از روش تلقیح و با بارگذاری wt.% ۴۰ نیمه رسانا اکسید روی بر روی پایه زئولیت Y تهیه شد و به منظور ارزیابی ساختار کریستالی پایه ، نیمه رسانا و فتوکاتالیستی سنتزی از آنالیز XRD و FESEM بهره گرفته شد. به جهت ارزیابی قابلیت تجزیه نوری نانوذرات اکسید روی تثبیت شده روی پایه زئولیتی Y و نیز بررسی اثر بکارگیری پایه زئولیتی ، فتوکامپوزیت سنتز شده به منظور تصفیه پساب آلاییده به آنتی بیوتیک تتراسایکلین تحت تابش نور UV مورد استفاده قرار گرفت و عملکرد فتوکاتالیستی آن با نانوذره ZnO خالص مورد مقایسه قرار گرفت . آنالیز XRD تایید کننده سنتز موفق فتوکاتالیست ها و نیز حضور فازهای کریستالی ZnO و Zeolite Y در ساختار فتوکامپوزیت بود. نتایج آنالیز FESEM نشان می دهد که استفاده از پایه زئولیت Y نه تنها ساختار نیمه رسانا ZnO را تغییر نمی دهد بلکه سبب کاهش تعداد کلوخه ها و انباشتگی ها و کاهش اندازه ذرات می شود. با توجه به نتایج حاصل از تست های راکتوری، فتوکامپوزیت ZnO/Zeolite Y تحت ۲ ساعت تابش نور ماوراءبنفش ، دوز فتوکاتالیست g/L ۵/۰ و غلظت آلاینده ppm ۱۰، %۷۱ از آلاینده تتراسایکلین حذف می کند.

Keywords:

زئولیت Y , تتراسایکلین , تصفیه فتوکاتالیستی , نیمه رسانا ZnO