سیویلیکا را در شبکه های اجتماعی دنبال نمایید.

طراحی و ساخت منبع تغذیه جریان مستقیم پالسی به منظور لایه نشانی ترکیبات نارسانا در روش کندوپاش مغناطیسی

Publish Year: 1391
Type: Conference paper
Language: Persian
View: 2,561

This Paper With 7 Page And PDF Format Ready To Download

Export:

Link to this Paper:

Document National Code:

NCPHYAPP01_073

Index date: 7 May 2013

طراحی و ساخت منبع تغذیه جریان مستقیم پالسی به منظور لایه نشانی ترکیبات نارسانا در روش کندوپاش مغناطیسی abstract

یک منبع تغذیه جریان مستقیم پالسی دو قطبی برای استفاده در سیستم کندوپاش مغناطیسی جهت پوشش دهی لایه های نازک نارسانا (Al2O3, NaxCo2O4, ITO, ZnO) ساخته شده است. منبع تغذیه از سه قسمت اصلی تشکیل شده است، (1) منابع تغذیه مستقم ولتاژ بالا با مدار های کنترل فاز و چند برابر کننده های ولتاژ، (2) مدار تولید کننده پالس قابل برنامه ریزی برای کنترل سوئیچ های قدرت، (3) مدارهای کنترل، حفاظت و اندازه گیری. پهنای پالس و دامنه ولتاژ منفی و مثبت بطور جداگانه قابل تعیین است. ولتاژ پیک تا پیک 1000V به صورت متقارن و یا نامتقارن با ماکزیمم جریان 2A بصورت منبع ولتاژ ثابت و یا منبع جریان ثابت با پهنای پالس حدود 10~100~Sµ با محدوده فرکانسی 8~22kHz تحت با اهمی بدست آمده است.

طراحی و ساخت منبع تغذیه جریان مستقیم پالسی به منظور لایه نشانی ترکیبات نارسانا در روش کندوپاش مغناطیسی Keywords:

کندوپاش مغناطیسی , منبع تغذیه مستقیم پالسی دو قطبی , پوشش دهی لایه های نازک نارسانا

طراحی و ساخت منبع تغذیه جریان مستقیم پالسی به منظور لایه نشانی ترکیبات نارسانا در روش کندوپاش مغناطیسی authors

سید محمود محاطی

پژوهشکده تحقیقات کشاورزی، پزشکی و صنعتی، پژوهشگاه علوم و فنون هسته ای

محمدرضا قاسمی

پژوهشکده تحقیقات کشاورزی، پزشکی و صنعتی، پژوهشگاه علوم و فنون هسته ای

ضرغام اسدالهی

پژوهشکده تحقیقات کشاورزی، پزشکی و صنعتی، پژوهشگاه علوم و فنون هسته ای

پروین بلاش آبادی

پژوهشکده تحقیقات کشاورزی، پزشکی و صنعتی، پژوهشگاه علوم و فنون هسته ای

مراجع و منابع این Paper:

لیست زیر مراجع و منابع استفاده شده در این Paper را نمایش می دهد. این مراجع به صورت کاملا ماشینی و بر اساس هوش مصنوعی استخراج شده اند و لذا ممکن است دارای اشکالاتی باشند که به مرور زمان دقت استخراج این محتوا افزایش می یابد. مراجعی که مقالات مربوط به آنها در سیویلیکا نمایه شده و پیدا شده اند، به خود Paper لینک شده اند :
_ _ _ _ _ _ 15-20, 2007. ...
Kristin B. Gylfason "Observation in solutions in a pulsed magnetron ...
B. Shamoun "RF powered target for increasing deposition uniformity in ...
H. C. Barshilia, K.S. Rajam "Reactive sputtering of hard nitride ...
W. Somkhunthot, T. Burinprakhon, I. Thomas, T. Seetawan, v. Amornkitb ...
_ _ Kouznetsov, K. Macak, J. M. Schneider, U. Helmersson, ...
نمایش کامل مراجع

مقاله فارسی "طراحی و ساخت منبع تغذیه جریان مستقیم پالسی به منظور لایه نشانی ترکیبات نارسانا در روش کندوپاش مغناطیسی" توسط سید محمود محاطی، پژوهشکده تحقیقات کشاورزی، پزشکی و صنعتی، پژوهشگاه علوم و فنون هسته ای؛ محمدرضا قاسمی، پژوهشکده تحقیقات کشاورزی، پزشکی و صنعتی، پژوهشگاه علوم و فنون هسته ای؛ ضرغام اسدالهی، پژوهشکده تحقیقات کشاورزی، پزشکی و صنعتی، پژوهشگاه علوم و فنون هسته ای؛ پروین بلاش آبادی، پژوهشکده تحقیقات کشاورزی، پزشکی و صنعتی، پژوهشگاه علوم و فنون هسته ای نوشته شده و در سال 1391 پس از تایید کمیته علمی نخستین کنفرانس سراسری فیزیک و کاربردهای آن پذیرفته شده است. کلمات کلیدی استفاده شده در این مقاله کندوپاش مغناطیسی، منبع تغذیه مستقیم پالسی دو قطبی، پوشش دهی لایه های نازک نارسانا هستند. این مقاله در تاریخ 17 اردیبهشت 1392 توسط سیویلیکا نمایه سازی و منتشر شده است و تاکنون 2561 بار صفحه این مقاله مشاهده شده است. در چکیده این مقاله اشاره شده است که یک منبع تغذیه جریان مستقیم پالسی دو قطبی برای استفاده در سیستم کندوپاش مغناطیسی جهت پوشش دهی لایه های نازک نارسانا (Al2O3, NaxCo2O4, ITO, ZnO) ساخته شده است. منبع تغذیه از سه قسمت اصلی تشکیل شده است، (1) منابع تغذیه مستقم ولتاژ بالا با مدار های کنترل فاز و چند برابر کننده های ولتاژ، (2) مدار تولید کننده پالس قابل ... . برای دانلود فایل کامل مقاله طراحی و ساخت منبع تغذیه جریان مستقیم پالسی به منظور لایه نشانی ترکیبات نارسانا در روش کندوپاش مغناطیسی با 7 صفحه به فرمت PDF، میتوانید از طریق بخش "دانلود فایل کامل" اقدام نمایید.