تاثیر گرم کننده جانبی فعال روی میدان های دما و تنش گرمایی در بلور sapphire در رشد به روش چکرالسکی

Publish Year: 1386
نوع سند: مقاله کنفرانسی
زبان: Persian
View: 1,215

متن کامل این Paper منتشر نشده است و فقط به صورت چکیده یا چکیده مبسوط در پایگاه موجود می باشد.
توضیح: معمولا کلیه مقالاتی که کمتر از ۵ صفحه باشند در پایگاه سیویلیکا اصل Paper (فول تکست) محسوب نمی شوند و فقط کاربران عضو بدون کسر اعتبار می توانند فایل آنها را دریافت نمایند.

  • Certificate
  • من نویسنده این مقاله هستم

استخراج به نرم افزارهای پژوهشی:

لینک ثابت به این Paper:

شناسه ملی سند علمی:

IPC86_282

تاریخ نمایه سازی: 20 دی 1385

Abstract:

تاثیر یک گرم کننده جانبی فعال روی میدان دما در یک بلور sapphire در حال رشد از مذاب، بوسیله حل معادله هدایت گرمایی از طریق محاسبات عددی و برخی ملاحظات تجربی مورد بررسی قرار می گیرد . نشان داده می شود که در سیستم دارای گرم کننده جانبی فعال ( رسانا ) ، تغییرات میدان دما نسبتا خطی بوده و گرادیان محوری دما روی محور تقارن بلور، مقدار نسبتا ثابتی دارد . در این حالت، تنش های گرمائی کمتری در بلور رشد یافته بوجود می آید

Authors

محمدحسین توکلی

همدان، دانشگاه بوعلی سینا، دانشکده علوم، گروه فیزیک

عبداله اجاقی

همدان، دانشگاه بوعلی سینا، دانشکده علوم، گروه فیزیک

ابراهیم ممیوند

همدان، دانشگاه بوعلی سینا، دانشکده علوم، گروه فیزیک