بررسی اثر ضخامت لایه فوتوآند با ساختار کره توخالی دی اکسید تیتانیم بر خواص فوتوولتاییک سلول خورشیدی رنگدانه ای
متن کامل این Paper منتشر نشده است و فقط به صورت چکیده یا چکیده مبسوط در پایگاه موجود می باشد.
توضیح: معمولا کلیه مقالاتی که کمتر از ۵ صفحه باشند در پایگاه سیویلیکا اصل Paper (فول تکست) محسوب نمی شوند و فقط کاربران عضو بدون کسر اعتبار می توانند فایل آنها را دانلود نمایند.
- Certificate
- I'm the author of the paper
Export:
Document National Code:
Index date: 17 October 2014
بررسی اثر ضخامت لایه فوتوآند با ساختار کره توخالی دی اکسید تیتانیم بر خواص فوتوولتاییک سلول خورشیدی رنگدانه ای abstract
بررسی اثر ضخامت لایه فوتوآند با ساختار کره توخالی دی اکسید تیتانیم بر خواص فوتوولتاییک سلول خورشیدی رنگدانه ای Keywords:
بررسی اثر ضخامت لایه فوتوآند با ساختار کره توخالی دی اکسید تیتانیم بر خواص فوتوولتاییک سلول خورشیدی رنگدانه ای authors
دانشگاه صنعتی شریف تهران، ایران
دانشگاه صنعتی شریف تهران، ایران
مراجع و منابع این Paper: