مقایسه روش های لیتوگرافی (اشعه ایکس و اشعه ی یونی)
Publish Year: 1394
نوع سند: مقاله کنفرانسی
زبان: Persian
View: 2,065
متن کامل این Paper منتشر نشده است و فقط به صورت چکیده یا چکیده مبسوط در پایگاه موجود می باشد.
توضیح: معمولا کلیه مقالاتی که کمتر از ۵ صفحه باشند در پایگاه سیویلیکا اصل Paper (فول تکست) محسوب نمی شوند و فقط کاربران عضو بدون کسر اعتبار می توانند فایل آنها را دریافت نمایند.
- Certificate
- من نویسنده این مقاله هستم
استخراج به نرم افزارهای پژوهشی:
شناسه ملی سند علمی:
ELECA01_004
تاریخ نمایه سازی: 1 آذر 1394
Abstract:
در علم الکترونیک لیتوگرافی نوعی روش برای انتقال نقشه و الگوی مدارات طراحی شده بر روی مواد نیمه هادی ها می باشد. لیتوگرافی اولین گام در انتقال اطلاعات مربوط به الگوی مدار روی ویفر است.پس اساس کار انتقال یک تصویر بر روی یک ماده حساس(ویفر) می باشد. با پیشرفت تکنولوژی،مدارات الکترونیکی روز به روز کوچکتر شده است. فشردگی مدارات و افزایش چگالی آن در یک آی سی منجر به تکامل و ساخت ابزارهای لیتوگرافی شده است. رسیدن ابعاد ادوات به زیر یک میکرومتر، نتیجه تکامل فناوری مختلف در عرصه لیتوگرافی بوده است.در این مقاله سعی شده است که دو روش لیتوگرافی اشعه ایکس و اشعه ی یونی مورد بررسی قرار گرفته و با یکدیگر مقایسه شود
Keywords:
لیتوگرافی-نیمه هادی-ویفر-اشعه ی ایکس-اشعه ی یونی
Authors
مهدی رستم زادمنصور
گروه برق، دانشکده، دانشگاه آزاد اسلامی واحد اردبیل، اردبیل، ایران
عمید جمشیدی مقدم
گروه برق، دانشکده، دانشگاه آزاد اسلامی واحد اردبیل، اردبیل، ایران
مراجع و منابع این Paper:
لیست زیر مراجع و منابع استفاده شده در این Paper را نمایش می دهد. این مراجع به صورت کاملا ماشینی و بر اساس هوش مصنوعی استخراج شده اند و لذا ممکن است دارای اشکالاتی باشند که به مرور زمان دقت استخراج این محتوا افزایش می یابد. مراجعی که مقالات مربوط به آنها در سیویلیکا نمایه شده و پیدا شده اند، به خود Paper لینک شده اند :