بررسی نقش سرعت جاروب و شدت تابش لیزر پالسی پیکوثانیه در کندوسوز لایه نازک مس به منظور بهینه سازی در ساخت ماسک لیتوگرافی به روش تحریر مستقیم لیزری
Publish Year: 1394
نوع سند: مقاله کنفرانسی
زبان: Persian
View: 588
متن کامل این Paper منتشر نشده است و فقط به صورت چکیده یا چکیده مبسوط در پایگاه موجود می باشد.
توضیح: معمولا کلیه مقالاتی که کمتر از ۵ صفحه باشند در پایگاه سیویلیکا اصل Paper (فول تکست) محسوب نمی شوند و فقط کاربران عضو بدون کسر اعتبار می توانند فایل آنها را دریافت نمایند.
- Certificate
- من نویسنده این مقاله هستم
استخراج به نرم افزارهای پژوهشی:
شناسه ملی سند علمی:
NCOLE04_167
تاریخ نمایه سازی: 30 دی 1394
Abstract:
تحربر مستقیم لیزری با توجه به طیف جذبی مواد در طول موج های مختلف ورزشی و جایگزینی مناسب برای دیگر فرایندهایی ایجاد ماسک لیتوگرافی است. در این کار اثرات سرعت جاروب و شدت تابش پنج کندوسوز لایه نازک مسی براساس تئوری انتقال حرارت محسوس بهینه سازی در کیفیت ساخت ماسک به روش جاروب لیزری شبیه سازی شده است و در ادامه با نتایج به دست آمده به ازای کندوسوز لیزر Nd:YAG پیکوثانیه 355 نانومتر با نرخ تکرار شش کیلو هرتز مورد مقایسه قرار گرفته است. نتایج به دست آمده نشان می دهد سرعت جواروب همیشه پارامتری در بهبود کیفیت کندوسوز بود و شدت تابش در دو محدوده آستانه کندوسووز می تواند در ایجاد الگویی با کیفیت و پهنای مسجد نقش بسزایی داشته باشد.
Keywords:
Authors
امید چوپانیان
پژوهشکده اپتیک، لیزر و فوتونیک دانشگاه صنعتی امیرکبیر، آزمایشگاه اندازه گیری اپتیکی دانشگاه صنعتی امیرکبیر ، دانشکده مهندسی انرژی و فیزیک دانشگاه صنعتی امیرکبیر
امیرحسین شهبازی
دانشکده فیزیک دانشگاه تهران
خسرو معدنی پور
پژوهشکده اپتیک، لیزر و فوتونیک دانشگاه صنعتی امیرکبیر (پلی تکنیک تهران)،آزمایشگاه اندازه گیری اپتیکی دانشگاه صنعتی امیرکبیر
عطاا... کوهیان
دانشکده فیزیک دانشگاه تهران
مراجع و منابع این Paper:
لیست زیر مراجع و منابع استفاده شده در این Paper را نمایش می دهد. این مراجع به صورت کاملا ماشینی و بر اساس هوش مصنوعی استخراج شده اند و لذا ممکن است دارای اشکالاتی باشند که به مرور زمان دقت استخراج این محتوا افزایش می یابد. مراجعی که مقالات مربوط به آنها در سیویلیکا نمایه شده و پیدا شده اند، به خود Paper لینک شده اند :