طراحی سیستم انتقال تصویرشش آینه ای لیتوگرافی EUV برای ابعاد نانومتری
Publish place: 12th Iranian Conference on Optics and Photonics
Publish Year: 1384
Type: Conference paper
Language: Persian
View: 1,421
متن کامل این Paper منتشر نشده است و فقط به صورت چکیده یا چکیده مبسوط در پایگاه موجود می باشد.
توضیح: معمولا کلیه مقالاتی که کمتر از ۵ صفحه باشند در پایگاه سیویلیکا اصل Paper (فول تکست) محسوب نمی شوند و فقط کاربران عضو بدون کسر اعتبار می توانند فایل آنها را دانلود نمایند.
- Certificate
- I'm the author of the paper
Export:
Document National Code:
ICOPTICP12_006
Index date: 9 March 2008
طراحی سیستم انتقال تصویرشش آینه ای لیتوگرافی EUV برای ابعاد نانومتری abstract
لیتوگرافی EUV روشی برای رسیدن به توان جداسازی بسیار بالا است . به علت نبودن ماده شفاف درناحیه EUV در بخش ازسیستم بازتابی استفاده می شود . کنترل ابیراهی ها وبهینه سازی درسیستم انتقال تصویر اهمیت زیادی دارد . دراین سیستم انتقال تصویر شش آینه ای با استفاده ازنرم افزارطراحی اپتیکی OSLO طراحی شده است که نتایج آن بر اساس ارزیابی تصویر بسیار خوب است . در این طراحی . برای بهینه سازی هرچه بیشتر از سطوح غیرکروی استفاده شده است .
طراحی سیستم انتقال تصویرشش آینه ای لیتوگرافی EUV برای ابعاد نانومتری Keywords:
طراحی سیستم انتقال تصویرشش آینه ای لیتوگرافی EUV برای ابعاد نانومتری authors
حمیدرضا فلاح
دانشگاه اصفهان
آیت الله کریمزاده
دانشگاه اصفهان
مراجع و منابع این Paper:
لیست زیر مراجع و منابع استفاده شده در این Paper را نمایش می دهد. این مراجع به صورت کاملا ماشینی و بر اساس هوش مصنوعی استخراج شده اند و لذا ممکن است دارای اشکالاتی باشند که به مرور زمان دقت استخراج این محتوا افزایش می یابد. مراجعی که مقالات مربوط به آنها در سیویلیکا نمایه شده و پیدا شده اند، به خود Paper لینک شده اند :