روشی نوین برای مطالعه واجذب اکسیژن در لایه نشانی لیزر پالسی اکسید تنگستن به وسیله داده برداری دامنه زمانی از افت وخیزهای مقاومت لایه در خلاء
Publish place: 3rd National Conference on Vacuum
Publish Year: 1386
Type: Conference paper
Language: Persian
View: 1,567
متن کامل این Paper منتشر نشده است و فقط به صورت چکیده یا چکیده مبسوط در پایگاه موجود می باشد.
توضیح: معمولا کلیه مقالاتی که کمتر از ۵ صفحه باشند در پایگاه سیویلیکا اصل Paper (فول تکست) محسوب نمی شوند و فقط کاربران عضو بدون کسر اعتبار می توانند فایل آنها را دانلود نمایند.
- Certificate
- I'm the author of the paper
Export:
Document National Code:
NCV03_003
Index date: 22 August 2008
روشی نوین برای مطالعه واجذب اکسیژن در لایه نشانی لیزر پالسی اکسید تنگستن به وسیله داده برداری دامنه زمانی از افت وخیزهای مقاومت لایه در خلاء abstract
لایه های اکسید تنگستن به روش لایه نشانی لیزر پالسی در محیط اکسیژن و همچنین در خلا ساخته شدند. با استفاده از XPS معلوم شد. نمونه اول حالت W+6 و با نسبت O/w=3 و دمی حالت های به صورت W+4>W+5>W+6
روشی نوین برای مطالعه واجذب اکسیژن در لایه نشانی لیزر پالسی اکسید تنگستن به وسیله داده برداری دامنه زمانی از افت وخیزهای مقاومت لایه در خلاء authors
مهدی رنجبر
دانشکده فیزیک
اعظم ایرج یزاد
دانشکده فیزیک، پژوهشکده نانو دانشگاه صنعتی شریف
سید محمد مهدوی
دانشکده فیزیک