سیویلیکا را در شبکه های اجتماعی دنبال نمایید.

Login
PapersConferencesJournals

بررسی اثر بازپخت در خلاء بر روی خواص الکتریکی، اپتیکی و ساختاری لایه های نازک و شفاف ITO تهیه شده به روش تبخیر در خلاء با استفاده از باریکه الکترونی

Publish place: 3rd National Conference on Vacuum
Publish Year: 1386
Type: Conference paper
Language: Persian
View: 1,253

متن کامل این Paper منتشر نشده است و فقط به صورت چکیده یا چکیده مبسوط در پایگاه موجود می باشد.
توضیح: معمولا کلیه مقالاتی که کمتر از ۵ صفحه باشند در پایگاه سیویلیکا اصل Paper (فول تکست) محسوب نمی شوند و فقط کاربران عضو بدون کسر اعتبار می توانند فایل آنها را دانلود نمایند.

Export:

Link to this Paper:
https://civilica.com/doc/57257

Document National Code:

NCV03_035

Index date: 22 August 2008

بررسی اثر بازپخت در خلاء بر روی خواص الکتریکی، اپتیکی و ساختاری لایه های نازک و شفاف ITO تهیه شده به روش تبخیر در خلاء با استفاده از باریکه الکترونی abstract

لایه های نازک ITO بر روی زیرلایه های شیشه ای در دمای 200 درجه سانتیگراد با کمک روش تبخیر در خلاء با استفاده از باریکه الکترونی، لایه نشانی شده است. نمونه های لایه نشانی شده، در محیط اتمسفر و محیط خلا، در دماهای مختلف تحت بازپخت قرار گرفته اند. مقاومت الکتریکی نمونه پس از لایه نشانی Ωcm 1/84*10-1 اندازه گیری شد و پس از بازپخت در اتمسفر و خلاء (به ترتیب) 500 و 400 درجه سانتیگراد، به مقدار Ωcm 1/35*10-4 کاهش یافت. عبور نوری نمونه 78/66% بدست آمد. با استفاده از نتایج XRD، ثابت شبکه ˚10/08A محاسبه شد. باند ممنوعه نوری لایه های نازک 4/27, ITO بدست آمد. برای بررسی اندازه گیری خواص لایه های نازک ITO از سیستم چهارترمینالی، طیف سنج XRD ، UV/VIS/IR و AFM استفاده شده است.

بررسی اثر بازپخت در خلاء بر روی خواص الکتریکی، اپتیکی و ساختاری لایه های نازک و شفاف ITO تهیه شده به روش تبخیر در خلاء با استفاده از باریکه الکترونی authors

فاطمه میرزائی

گروه فیزیک، دانشکده علوم، دانشگاه یزد

محمد هادی ملکی

پژوهشکده لیزر و اپتیک، سازمان انرژی اتمی، پژوهشگاه علوم و فنون هسته ا

غضنفر میرجلیلی

گروه فیزیک، دانشکده علوم، دانشگاه یزد

مقاله فارسی "بررسی اثر بازپخت در خلاء بر روی خواص الکتریکی، اپتیکی و ساختاری لایه های نازک و شفاف ITO تهیه شده به روش تبخیر در خلاء با استفاده از باریکه الکترونی" توسط فاطمه میرزائی، گروه فیزیک، دانشکده علوم، دانشگاه یزد؛ محمد هادی ملکی، پژوهشکده لیزر و اپتیک، سازمان انرژی اتمی، پژوهشگاه علوم و فنون هسته ا؛ غضنفر میرجلیلی، گروه فیزیک، دانشکده علوم، دانشگاه یزد نوشته شده و در سال 1386 پس از تایید کمیته علمی سومین کنفرانس ملی خلاء پذیرفته شده است. کلمات کلیدی استفاده شده در این مقاله هستند. این مقاله در تاریخ 1 شهریور 1387 توسط سیویلیکا نمایه سازی و منتشر شده است و تاکنون 1253 بار صفحه این مقاله مشاهده شده است. در چکیده این مقاله اشاره شده است که لایه های نازک ITO بر روی زیرلایه های شیشه ای در دمای 200 درجه سانتیگراد با کمک روش تبخیر در خلاء با استفاده از باریکه الکترونی، لایه نشانی شده است. نمونه های لایه نشانی شده، در محیط اتمسفر و محیط خلا، در دماهای مختلف تحت بازپخت قرار گرفته اند. مقاومت الکتریکی نمونه پس از لایه نشانی Ωcm 1/84*10-1 اندازه گیری ... . برای دانلود فایل کامل مقاله بررسی اثر بازپخت در خلاء بر روی خواص الکتریکی، اپتیکی و ساختاری لایه های نازک و شفاف ITO تهیه شده به روش تبخیر در خلاء با استفاده از باریکه الکترونی با 4 صفحه به فرمت PDF، میتوانید از طریق بخش "دانلود فایل کامل" اقدام نمایید.