سیویلیکا را در شبکه های اجتماعی دنبال نمایید.

بهبود مقاومت بدنه برای کاهش اثر خودگرمایی در ترانزیستورهای SOI MOSFET

Publish Year: 1395
Type: Conference paper
Language: Persian
View: 757

This Paper With 7 Page And PDF Format Ready To Download

Export:

Link to this Paper:

Document National Code:

ISBNCONF01_017

Index date: 26 September 2017

بهبود مقاومت بدنه برای کاهش اثر خودگرمایی در ترانزیستورهای SOI MOSFET abstract

با پیشرفت تکنولوژیهای زیر میکرومتر، صتعت الکترونیک در جهت کاهش ابعاد ترانزیستورها و بکتربردن ادوات سیلیکونی در مقیاس بزرگ مجتمعسازی پیش میرود . این مقاله طرد جدیدی برای ساختار ترانزیستورهای SOI-MOSFET به عنوان راه کاری مناسب برای کاهش اثرات مخرر پدیده خودگرمایی ارایه می دهد. ایده اصلی در ارایه این ساختار نوین، استفاده از ماده Si۳N۴ میباشد که دارای هدایت گرمایی بیشتری نسبت به اکسید سیلیسیم است. نتایج به دست آمده نشان می دهند که ساختار SOI-MOSFET چند لایه ای می تواند نقش به سزایی در انتقال گرما به لایه های زیرین لایه مدفون داشته و از افزایش گرما در کانال جلوگیری نماید

بهبود مقاومت بدنه برای کاهش اثر خودگرمایی در ترانزیستورهای SOI MOSFET Keywords:

بهبود مقاومت بدنه برای کاهش اثر خودگرمایی در ترانزیستورهای SOI MOSFET authors

فرشته رضایی ارپاتپه

دانشگاه آزاد تهران رشته برق گرایش کنترل

جواد رضایی ارپاتپه

دانشگاه محقق اردبیل رشته برق گرایش قدرت

بنیامین قنبرعالی

دانشگاه آزاد اردبیل رشته برق الکترونیک گرایش دیجیتال

علی قوسی آدم درسی

دانشگاه آزاد اردبیل رشته برق گرایش مدارهای مجتمع خطی

مقاله فارسی "بهبود مقاومت بدنه برای کاهش اثر خودگرمایی در ترانزیستورهای SOI MOSFET" توسط فرشته رضایی ارپاتپه، دانشگاه آزاد تهران رشته برق گرایش کنترل؛ جواد رضایی ارپاتپه، دانشگاه محقق اردبیل رشته برق گرایش قدرت؛ بنیامین قنبرعالی، دانشگاه آزاد اردبیل رشته برق الکترونیک گرایش دیجیتال؛ علی قوسی آدم درسی، دانشگاه آزاد اردبیل رشته برق گرایش مدارهای مجتمع خطی نوشته شده و در سال 1395 پس از تایید کمیته علمی اولین کنفرانس بین المللی مهندسی برق پذیرفته شده است. کلمات کلیدی استفاده شده در این مقاله ترانزیستور اثر میدان، سیلیسیم روی عایق، خود گرمایی هستند. این مقاله در تاریخ 4 مهر 1396 توسط سیویلیکا نمایه سازی و منتشر شده است و تاکنون 757 بار صفحه این مقاله مشاهده شده است. در چکیده این مقاله اشاره شده است که با پیشرفت تکنولوژیهای زیر میکرومتر، صتعت الکترونیک در جهت کاهش ابعاد ترانزیستورها و بکتربردن ادوات سیلیکونی در مقیاس بزرگ مجتمعسازی پیش میرود . این مقاله طرد جدیدی برای ساختار ترانزیستورهای SOI-MOSFET به عنوان راه کاری مناسب برای کاهش اثرات مخرر پدیده خودگرمایی ارایه می دهد. ایده اصلی در ارایه این ساختار نوین، استفاده از ماده Si۳N۴ میباشد که دارای هدایت ... . برای دانلود فایل کامل مقاله بهبود مقاومت بدنه برای کاهش اثر خودگرمایی در ترانزیستورهای SOI MOSFET با 7 صفحه به فرمت PDF، میتوانید از طریق بخش "دانلود فایل کامل" اقدام نمایید.