تغییر ترشوندگی لایه اکسید گرافین با استفاده از کاهش به روش فوتوکاتالیستی

در این مقاله نتایج اثر کاهش فوتوکاتالیستی بر آبدوستی ورقه های اکسید گرفین ارایه میگردد . ورقه های اکسید گرافین از طریق اکسید کردن گرافیت طبیعی و ورقه ورقه کردن آن با شوک مکانیکی تهیه شده و سپس در حضور نانوذرات دی اکسید تیتانیوم تحت تابش اشعه فرابنفش قرار گرفتند. طیف سنجی رامان و میکروسکوپ نیروی اتمی نشان دادند که با افزایش تابش میزان زبری در سطح افزایش مییابد. همچنین میزان آبدوستی نمونه ها با اندازهگیری زاویه تماسی قطرات میکرولیتری آب دیونیزه، نشان داد که با افزایش مدت زمان تابش تا 8 ساعت زاویه تماسی نمونه ها از حدود 72 درجه تا حدود 98 درجه افزایش مییابد.

Keywords:

زاویه تماسی , اکسید گرافین , نانوذرات دیاکسید تیتانیوم , کاهش فوتوکاتالیستی