سیویلیکا را در شبکه های اجتماعی دنبال نمایید.

مقایسه طراحی مدار اینورتر CMOS و FinFET در ناحیه زیر آستانه با تکنیک کاهش جریان نشتی

Publish Year: 1397
Type: Conference paper
Language: Persian
View: 681

This Paper With 20 Page And PDF Format Ready To Download

Export:

Link to this Paper:

Document National Code:

ICELE03_201

Index date: 9 March 2019

مقایسه طراحی مدار اینورتر CMOS و FinFET در ناحیه زیر آستانه با تکنیک کاهش جریان نشتی abstract

در این مقاله خلاصه ای از تفاوت عملکرد یک اینورتر بوت استرپ CMOS در تکنولوژی 90 نانومتر با FinFET درتکنولوژی 20 نانومتر در ناحیه زیر آستانه با تکنیک کاهش جریان نشتی می باشد.در این مقاله نشان داده شده است که توان مصرفی وتوان نشتی در مدار با طراحی FinFET نسبت به مدار CMOS کاهش یافته است اما تاخیر مدار CMOS کمتر از آن است و در نهایت شاهد این خواهیم بود که PDP و EDP مدار FinFET بهینه تر از مدار CMOS خواهد بود.همچنین نشان داده شده است که بارهای مختلف چه تاثیری در توان مصرفی خواهند گذاشت.

مقایسه طراحی مدار اینورتر CMOS و FinFET در ناحیه زیر آستانه با تکنیک کاهش جریان نشتی Keywords:

مدار های توان پایین , کاهش جریان نشتی , مدار های Bootstrapped , مدار در ناحیه زیرآستانه

مقایسه طراحی مدار اینورتر CMOS و FinFET در ناحیه زیر آستانه با تکنیک کاهش جریان نشتی authors

علیرضا حسن زاده

استادیار دانشکده مهندسی برق دانشگاه شهید بهشتی

شایان هاشمی ایزیی

دانشجو کارشناسی ارشد دانشگاه آزاد اسلامی واحد مرکز

مقاله فارسی "مقایسه طراحی مدار اینورتر CMOS و FinFET در ناحیه زیر آستانه با تکنیک کاهش جریان نشتی" توسط علیرضا حسن زاده، استادیار دانشکده مهندسی برق دانشگاه شهید بهشتی؛ شایان هاشمی ایزیی، دانشجو کارشناسی ارشد دانشگاه آزاد اسلامی واحد مرکز نوشته شده و در سال 1397 پس از تایید کمیته علمی سومین کنفرانس بین المللی مهندسی برق پذیرفته شده است. کلمات کلیدی استفاده شده در این مقاله مدار های توان پایین، کاهش جریان نشتی، مدار های Bootstrapped، مدار در ناحیه زیرآستانه هستند. این مقاله در تاریخ 18 اسفند 1397 توسط سیویلیکا نمایه سازی و منتشر شده است و تاکنون 681 بار صفحه این مقاله مشاهده شده است. در چکیده این مقاله اشاره شده است که در این مقاله خلاصه ای از تفاوت عملکرد یک اینورتر بوت استرپ CMOS در تکنولوژی 90 نانومتر با FinFET درتکنولوژی 20 نانومتر در ناحیه زیر آستانه با تکنیک کاهش جریان نشتی می باشد.در این مقاله نشان داده شده است که توان مصرفی وتوان نشتی در مدار با طراحی FinFET نسبت به مدار CMOS کاهش یافته است اما تاخیر مدار CMOS ... . برای دانلود فایل کامل مقاله مقایسه طراحی مدار اینورتر CMOS و FinFET در ناحیه زیر آستانه با تکنیک کاهش جریان نشتی با 20 صفحه به فرمت PDF، میتوانید از طریق بخش "دانلود فایل کامل" اقدام نمایید.