تعیین ضخامت لایه نازک دی الکتریک SiO2 بر روی بستر با استفاده از تکنیک رنگ
Publish place: 03rd Iranian Conference on Photonics Engineering
Publish Year: 1389
نوع سند: مقاله کنفرانسی
زبان: Persian
View: 1,354
متن کامل این Paper منتشر نشده است و فقط به صورت چکیده یا چکیده مبسوط در پایگاه موجود می باشد.
توضیح: معمولا کلیه مقالاتی که کمتر از ۵ صفحه باشند در پایگاه سیویلیکا اصل Paper (فول تکست) محسوب نمی شوند و فقط کاربران عضو بدون کسر اعتبار می توانند فایل آنها را دریافت نمایند.
- Certificate
- من نویسنده این مقاله هستم
استخراج به نرم افزارهای پژوهشی:
شناسه ملی سند علمی:
PHOTONICS03_004
تاریخ نمایه سازی: 30 آبان 1389
Abstract:
تعیین ضخامت در لایه های نازک مسئله پراهمیتی است که د رخط تولید قطعات الکترونیکی و اپتوالکترونیکی بسیار مورد توجه است دراین مقاله باتوجه به کاربرد وسیع لایه های نازک عایق SiO2 در صنعت اپتوالکترونیک اندازه گیری ضخامت این لایه ها با استفاده از تکنیک رنگ موردتوجه قرار گرفته است دراین روش استانداردماتریسی برای تشخیص رنگ انتخاب شد هاست در نهایت با استفاده از نتایج تجربی حاصل از لایه نشانی به روش APCVD جدول رنگ متناظر با ضخامتهای مختلف بدست آمده که می توان با استفاده از آن د رحین لایه نشانی در دستگاه CVD، ضخامت لایه را تشخیص داد.
Authors
مراجع و منابع این Paper:
لیست زیر مراجع و منابع استفاده شده در این Paper را نمایش می دهد. این مراجع به صورت کاملا ماشینی و بر اساس هوش مصنوعی استخراج شده اند و لذا ممکن است دارای اشکالاتی باشند که به مرور زمان دقت استخراج این محتوا افزایش می یابد. مراجعی که مقالات مربوط به آنها در سیویلیکا نمایه شده و پیدا شده اند، به خود Paper لینک شده اند :